【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体上涉及微光刻系统,并且具体地涉及对用于将图案曝光到光敏抗蚀剂上的系统的气候控制。
技术介绍
1、已知用于微光刻的系统、这些系统中使用的部件以及用于执行微光刻的工艺对例如空气颗粒、温度和湿度敏感。如今,这些系统通常容纳在洁净室内,以便使这些问题的影响最小化。为了提高最终产品的质量,控制这些系统的环境是重要的。
2、微光刻系统的气候控制的主要问题是需要适当地调节向打印设备供应清洁空气,以便不引起热膨胀或收缩形式的问题。例如,如果要曝光的微光刻掩模从生产链中的一个区域移动到另一个区域(例如微光刻掩模写入器)中,如果区域之间存在温差,则要曝光的微光刻掩模将在形状上热膨胀或收缩。
3、在现有技术中,这已经通过例如使空气在洁净室环境中横穿不锈钢管的长盘管来供应而解决,使得空气在到达打印设备时在温度上足够接近气候室。
4、然而,问题仍然存在。例如,洁净室(环境)温度的任何波动都有可能转化为进入打印设备的隔室的空气的温度波动。现有技术的其他问题可能是,与环境相比,它不允许气候室中的温度不同,或者系统可能
...【技术保护点】
1.一种微光刻系统(100),包括:
2.根据权利要求1所述的微光刻系统,还包括与所述流体储存器热连接的储热器(170),其中所述储热器与所述气候室热连接。
3.根据权利要求2所述的微光刻系统,其中所述储热器是所述打印设备或所述气候室的一部分。
4.根据权利要求2或3所述的微光刻系统,其中所述储热器包括铝和不锈钢中的至少一种的主体。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的微光刻系统,其中,所述储热器布置在所述气候室内。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的微光刻系统,还包括第二热交换装置(180),所述第二热交
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种微光刻系统(100),包括:
2.根据权利要求1所述的微光刻系统,还包括与所述流体储存器热连接的储热器(170),其中所述储热器与所述气候室热连接。
3.根据权利要求2所述的微光刻系统,其中所述储热器是所述打印设备或所述气候室的一部分。
4.根据权利要求2或3所述的微光刻系统,其中所述储热器包括铝和不锈钢中的至少一种的主体。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的微光刻系统,其中,所述储热器布置在所述气候室内。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的微光刻系统,还包括第二热交换装置(180),所述第二热交换装置(180)被布置成与所述流体储存器热接触并且被配置成在气氛和所述流体储存器之间传递热量。
7.根据前述权利要求任一项所述的微光刻系统,其中,所述流体储存器布置在所述气候室内。
8.根据前述权利要求任一项所述的微光刻系统,其中,供应至所述第一热交换装置的...
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