洗涤器制造技术

技术编号:42497246 阅读:19 留言:0更新日期:2024-08-22 14:08
本发明专利技术涉及气体处理技术领域,公开一种洗涤器。其中洗涤器包括第一处理单元、第二处理单元、第三处理单元和收集单元;第二处理单元设置与第一处理单元和第三处理单元的下方,收集单元设置于第二处理单元的下方;第一处理单元包括待处理气体进口、反应气体进口和一次水帘区,待处理气体进口设置有等离子体炬;第二处理单元包括二流体捕集区、一次洗涤区和二次洗涤区,一次洗涤区设置有一次填料部和一次喷淋部,二次洗涤区设置有二次喷淋部和二次填料部;第三处理单元沿待处理气体流动方向依次连通设置有二次水帘区、雾化物去除区和气体出口。本发明专利技术的洗涤器对气体处理效果更好,同时结构更加紧凑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及气体处理,尤其涉及一种洗涤器


技术介绍

1、处理半导体、太阳能等工程排出的气体(sih4等)时,会产生大量的粉尘(powder)。洗涤器是将半导体及太阳能工程排出的气体用水溶解后废水化,并净化后排出的核心设备。半导体及太阳能工程使用量正在增加,因此,处理大量气体时产生的粉尘的洗涤器需求正在增加。

2、现有技术中,传统的淋水洗涤塔的洗涤效果有限,导致不少的粉尘排放入大气,造成环境污染,危害人们身体健康;同时现有的淋水洗涤塔尺寸较大,占用较多的空间。

3、所以,亟需一种洗涤器,以解决上述问题。


技术实现思路

1、基于以上所述,本专利技术的目的在于提供一种洗涤器,对气体处理效果更好,同时结构更加紧凑。

2、为达上述目的,本专利技术采用以下技术方案:

3、洗涤器,包括沿待处理气体流动方向依次连通设置有第一处理单元、第二处理单元、第三处理单元和收集单元;

4、所述第二处理单元设置与所述第一处理单元和所述第三处理单元的下方,所述收集单元设置于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.洗涤器,其特征在于,所述洗涤器包括沿待处理气体流动方向依次连通设置有第一处理单元(100)、第二处理单元(200)、第三处理单元(300)和收集单元(400);

2.根据权利要求1所述的洗涤器,其特征在于,所述待处理气体进口(110)设置为锥形口,所述锥形口的内径朝向靠近所述反应气体进口(120)方向逐渐减小;所述第一处理单元(100)还包括刮链(112),所述刮链(112)对应所述锥形口的内壁设置。

3.根据权利要求1所述的洗涤器,其特征在于,所述第二处理单元(200)包括洗涤箱体(240),所述收集单元(400)包括水箱(410),所述水箱(410)设置于...

【技术特征摘要】

1.洗涤器,其特征在于,所述洗涤器包括沿待处理气体流动方向依次连通设置有第一处理单元(100)、第二处理单元(200)、第三处理单元(300)和收集单元(400);

2.根据权利要求1所述的洗涤器,其特征在于,所述待处理气体进口(110)设置为锥形口,所述锥形口的内径朝向靠近所述反应气体进口(120)方向逐渐减小;所述第一处理单元(100)还包括刮链(112),所述刮链(112)对应所述锥形口的内壁设置。

3.根据权利要求1所述的洗涤器,其特征在于,所述第二处理单元(200)包括洗涤箱体(240),所述收集单元(400)包括水箱(410),所述水箱(410)设置于所述洗涤箱体(240)下方。

4.根据权利要求3所述的洗涤器,其特征在于,所述洗涤箱体(240)内竖直设置有挡板(241),所述挡板(241)的一侧设置为所述一次洗涤区(220),另一侧设置为所述二次洗涤区(230),所述挡板(241)的上端与所述洗涤箱体(240)的顶壁间隔设置,以连通所述一次洗涤区(220)和所述二次洗涤区(230)。

5.根据权利要求4所述的洗涤器,其特征在于,所述水箱(410)的底壁倾斜设置,且与所述一次洗涤区(220)连通的一端低于与所述二次洗涤区(230)连通的一端。

6.根据权利要求4所述的洗涤器,其特征在于,所述一次洗涤区(220)设置有第一分隔套筒(223),所述第一分隔套筒(223)的上端与所述待处理气体进口(110)和所述反应气体进口(120)连通,所述二流体捕集区(210)设置于所述第一分隔套筒(223)的下侧,所述一次水帘区(130)包括第一水帘喷嘴(131),所述一次填料部(221)包括第一鲍尔环(2211),所述一次喷淋部(222)设置有第一喷嘴(2221),所述第一水帘喷嘴(...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚文旭林采成王俊珺徐神斌
申请(专利权)人:浙江思辰半导体设备有限公司
类型:发明
国别省市:

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