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一种基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法技术

技术编号:42496972 阅读:53 留言:0更新日期:2024-08-22 14:07
本发明专利技术提供了一种基于纳米粒子自组装裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨率光学显微成像方法,该方法利用胶体自组装技术,在目标样品表面形成由深亚波长尺寸的电介质纳米粒子构成的微观裂纹图案薄膜,通过常规光学显微镜的暗场斜射照明模式,利用该纳米粒子裂纹薄膜实现对样品的全视场超分辨光学成像,其分辨率可达100nm。本发明专利技术具有高分辨率、高对比度、全视场和实时成像的优势,同时制备流程简便、成本低廉、使用便捷。该方法在纳米材料表面结构分析、纳米光学效应探索以及生物医学高分辨率成像等领域具有广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米光学成像,尤其涉及一种基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法


技术介绍

1、光学显微镜是人类探索微观世界的重要工具,它利用可见光和透镜系统对微小物体进行放大成像,在现代科研和生产领域得到广泛应用。然而,受光的衍射极限制约,常规光学显微镜在白光照明下的分辨率上限仅为照明光波长的一半,约为300nm,这一分辨率已无法满足日益增长的纳米尺度精细观测需求。

2、突破光学显微镜的分辨率极限,实现超分辨成像已成为国际前沿研究热点,并取得了多项重要进展。目前,超分辨光学成像技术主要分为远场和近场两种途径。通常,物体发射或反射的光包含低频远场传播波和高频近场消逝波。远场传播波可在自由空间传播,易于被人眼或光学设备捕捉,但受衍射极限限制。近场消逝波虽不受衍射极限限制,但在介质中随传播距离指数衰减,仅局限于物体表面亚波长近场区域,难以被常规光学设备捕捉。

3、远场超分辨成像通过降低或避免传播波间衍射效应实现,如获得2014年诺贝尔化学奖的超分辨荧光显微技术。近场超分辨成像则通过捕捉物体表面携带超分辨信息的近场消逝波本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:步骤(1)中胶体自组装方法包括旋涂法、滴涂法、垂直浸渍法、提拉法中的任一种。

3.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:步骤(1)中深亚波长尺寸的电介质纳米粒子的粒径范围为1nm~50nm。

4.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:所述电介质纳米粒子在可见光波段的折射率...

【技术特征摘要】

1.一种基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:步骤(1)中胶体自组装方法包括旋涂法、滴涂法、垂直浸渍法、提拉法中的任一种。

3.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:步骤(1)中深亚波长尺寸的电介质纳米粒子的粒径范围为1nm~50nm。

4.如权利要求1所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:所述电介质纳米粒子在可见光波段的折射率>1.4,在可见光波段的吸收系数<10-3cm-1。

5.如权利要求3或4所述的基于纳米粒子裂纹薄膜超透镜的全视场超分辨光学显微成像方法,其特征在于:所述电介...

【专利技术属性】
技术研发人员:范闻陈宇王伟成蒋浩乔一徐祖顺
申请(专利权)人:湖北大学
类型:发明
国别省市:

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