一种超静态精密空调系统、其控制方法及其应用技术方案

本发明专利技术公开了一种超静态精密空调系统、控制方法及其应用，其系统由蒸气压缩式制冷循环单元、循环空气恒温恒湿处理回路和精密测量控制单元组成，用于向热控对象提供精密控温的循环空气；其精密测量控制单元通过过程参数测量、制冷压缩机能量控制、制冷剂冷凝压力控制、制冷剂蒸发温度和过热度控制，以及循环空气超静态恒温控制；实现循环空气±10mK级温度精度的控制。本发明专利技术应用于光刻机等精密机械加工、精密测量设备的微环境空气温湿度、洁净度控制，具有较强的抗热负载宽幅、频繁扰动的能力，使得被控对象微环境空气指标能在较短响应时间内稳定于设定值，并持续保持。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于制冷空调，特别涉及满足光刻机应用的控温精度为±10mk级的超静态循环风处理系统。

技术介绍

1、温度高精确和高稳定性控制是高端芯片制造装备研发的重要任务，以光刻加工成像质量的控制为例，纳米级光刻设备的加工质量受温度、压力、激光波长等因素的影响分别为：温度4770nm/℃、压力22.8nm/mpa、波长470nm/pm。投影物镜、激光干涉仪作为温度最敏感部件，不仅对内部单点温度精度要求很高，而且对其空间温度场的均匀性也有极高要求。温度精度、空间均匀性及其随时间漂移性都会严重影响光刻机的定位精度和套刻精度。除光刻机外，温度精确控制也直接影响其它芯片制造装备和工艺的加工质量。晶圆生长过程中温度的波动会引起内部晶格组织的不均匀性，导致后续硅片加工的废品率上升；光刻涂胶和烘焙时温度的稳定性和一致性是保证涂胶均匀和光刻胶性能的必要条件；刻蚀工艺中芯片特征尺寸的均匀性和侧面图形的轮廓控制也需要精确的温度控制来保证。其它行业的高、精、尖设备同样需要超静态温度控制。纳米级长度计量中，测量钢制件温度引起的长度变化为11500nm/℃；超精密加工中机床热变形引起的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超静态精密空调系统，其特征是：所述系统是由蒸气压缩式制冷循环单元、循环空气恒温恒湿处理回路和精密测量控制单元组成，用于向热控对象提供精密控温的循环空气；

2.一种权利要求1所述的超静态精密空调系统的控制方法，其特征是：所述过程参数测量是指按如下形式设置各传感器，并实现过程参数测量：

3.根据权利要求2所述的超静态精密空调系统的控制方法，其特征是：

4.一种权利要求1所述的超静态精密空调系统的应用，其特征是：设置所述系统按如下任一模式工作：

【技术特征摘要】

1.一种超静态精密空调系统，其特征是：所述系统是由蒸气压缩式制冷循环单元、循环空气恒温恒湿处理回路和精密测量控制单元组成，用于向热控对象提供精密控温的循环空气；

2.一种权利要求1所述的超静态精密空调系统的控制方法，其特征是：所述过...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛靖宇，郭晓元，张坤，王含笑，樊玲，王铁军，
申请(专利权)人：安徽宾肯环境科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：