【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造设备，尤其涉及一种半导体用液体硅源分配阀门箱。
技术介绍
1、液体硅源是指用于生产硅基材料的液体化合物，常见的液体硅源包括三氯氢硅(tcs)和硅烷(sih4)。液体硅源在半导体制造以及其他相关工艺中广泛应用。这些应用要求精确、可靠且安全地处理和分配高度活性的化学物质。传统的液体硅源分配系统在系统内部的清洁效率、紧急响应能力和化学物质的排放安全方面都存在缺陷。
2、目前的液体硅源分配系统通常依赖于单一类型的吹扫气体，如用氮气维持系统内部的清洁。然而，这种单一气体吹扫方法无法快速达到所需的清洁度。另外，现有系统缺乏有效的远程控制能力，这在紧急情况下限制了操作员的响应速度和灵活性。在系统故障或泄漏的情况下，无法迅速且远程地关闭阀门或启动安全程序，这具有安全隐患。此外，在现有系统中，使用真空排放技术无法完全排空管道中的化学物质(如tcs)，这对维修人员的安全构成威胁。在停机维修时，如果tcs没有被彻底清除，可能会让操作人员暴露在有害化学物质中，增加了操作风险。
3、因此，亟需对现有装置进行改进以提高液...
【技术保护点】
1.一种半导体用液体硅源分配阀门箱，所述阀门箱内设置有常出口管路；其特征在于，所述阀门箱内还设置有：
2.根据权利要求1所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述阀门箱内还设置有：
3.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述第一进气管路、所述第二进气管路和所述第三进气管路上都设置有止回阀。
4.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述第一吹扫气体为氢气，所述第二吹扫气体为第一纯度的氮气，所述第三吹扫气体为第二纯度的氮气，所述第二纯度小于所述第一纯度。
5.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种半导体用液体硅源分配阀门箱，所述阀门箱内设置有常出口管路；其特征在于，所述阀门箱内还设置有：
2.根据权利要求1所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述阀门箱内还设置有：
3.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述第一进气管路、所述第二进气管路和所述第三进气管路上都设置有止回阀。
4.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述第一吹扫气体为氢气，所述第二吹扫气体为第一纯度的氮气，所述第三吹扫气体为第二纯度的氮气，所述第二纯度小于所述第一纯度。
5.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述紧急出口管路上设置有真空发生器，用于为所述紧急出口管路提供真空环境。
6.根据权利要求2所述的半导体用液体硅源分配阀门箱，其特征在于，所述阀门箱内设置有多个常出口管路，每...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴庆东，李国扣，黄俊，
申请(专利权)人：上海新傲科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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