一种模切用低硅重离型膜的制备方法技术

本发明专利技术开发了一种模切用低硅重离型膜的制备方法,通过将硅油乳化在水性树脂体系中，涂布在底材上后加热破乳并形成底层，然后通过光固化形成表层，有效降低离型膜中全重硅油的用量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种离型膜的制备方法，具体为一种模切用低硅重离型膜的制备方法。

技术介绍

1、离型膜是指薄膜表面能有区分的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。

2、现有技术中，离型膜所用硅油一般使用全重硅油调制形成。但是全重硅油成本高，因此，如何降低离型膜中全重硅油的用量，成为降低生产成本的重要课题。

技术实现思路

1、本专利技术开发了一种模切用低硅重离型膜的制备方法，通过将硅油乳化在水性树脂体系中，涂布在底材上后加热破乳并形成底层，然后通过光固化形成表层，有效降低离型膜中全重硅油的用量。

2、一种模切用低硅重离型膜的制备方法，所述制备方法具体如下：

3、一、乳化硅油体系制备

4、(1)取热固性水性树脂溶于3-5倍质量的纯水中，然后加入总质量0.5‰-1‰的乳化剂，制得水性树脂体系；

5、(2)将光固化剂溶于氯仿，加入光固化剂质量1-3倍的空心玻璃微粉以及光固化剂质量0.1-0.2倍的石蜡，加热至70℃-80℃，然后蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法具体如下：

2.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述热固性水性树脂为巴斯夫JONCRYL 682。

3.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述乳化剂为道康宁OS-10、OS-20、OS-30中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述光固化剂为184或651。

5.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述硅油为乙烯基硅油。

6.根据权利要求5所述模切...

【技术特征摘要】

1.一种模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法具体如下：

2.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述热固性水性树脂为巴斯夫joncryl 682。

3.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述乳化剂为道康宁os-10、os-20、os-30中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述模切用低硅重离型膜的制备方法，其特征在于：所述光固化剂为184或651。

5....

【专利技术属性】
技术研发人员：罗良林，罗斌，
申请(专利权)人：江西邦力达科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：