一种光掩模去胶装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光掩模去胶装置及方法，包括：工作箱，内部限定出工作腔；两个夹爪气缸，相对设于工作腔的左右两侧；旋转组件，用于驱动两个夹爪气缸同步转动；喷液组件，包括喷液盒、输液装置、喷头，喷液盒转动设于两个夹爪气缸之间的上侧，喷液盒的转动轴线前后分布，输液装置用于向喷液盒内输送去胶液，多个喷头均设于喷液盒，用于将喷液盒内的去胶液喷出至光掩模的表面；其中，喷液盒转动过程中至少具有第一位置、第二位置和第三位置，在第一位置下，喷头竖直朝下，在第二位置下，喷头倾斜朝向光掩模的左侧边缘，在第三位置下，喷头倾斜朝向光掩模的右侧边缘。本发明专利技术能够十分便捷地对光掩模的两个表面进行去胶，并能充分去胶。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光掩模加工设备，特别涉及一种光掩模去胶装置及方法。

技术介绍

1、光掩模经过曝光、显影之后，需要去除表面的光刻胶。传统的去胶方式通常是通过向光掩模上喷淋去胶液来去除光掩模上的光刻胶，该去胶方法通常是利用抽真空的方式将光掩模吸附在一个可旋转的载物台上，利用旋转时的离心力使去胶液分散至光掩模各个位置，但这个方法往往不能充分地将去胶液分散至光掩模各个位置以进行去胶，而且每次只能对光掩模的单面进行清洗，清洗另一面需要进行翻面操作，操作起来十分麻烦。

技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种光掩模去胶装置，能够十分便捷地对光掩模的两个表面进行去胶，并能充分去胶。

2、本专利技术还提出一种基于上述光掩模去胶装置的光掩模去胶方法。

3、根据本专利技术第一方面实施例的光掩模去胶装置，包括：

4、工作箱，内部限定出工作腔；

5、两个夹爪气缸，相对设于所述工作腔的左右两侧，分别用于夹持光掩模长度方向的两端；

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【技术保护点】

1.一种光掩模去胶装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光掩模去胶装置，其特征在于：所述夹爪气缸(200)被配置为：当所述喷液盒(510)由所述第一位置转动至所述第二位置时，位于左侧的所述夹爪气缸(200)松开所述光掩模(300)，且位于右侧的所述夹爪气缸(200)夹持所述光掩模(300)，当所述喷液盒(510)由所述第一位置转动至所述第三位置时，位于右侧的所述夹爪气缸(200)松开所述光掩模(300)，且位于左侧的所述夹爪气缸(200)夹持所述光掩模(300)。

3.根据权利要求2所述的光掩模去胶装置，其特征在于：还包括支撑机构(600)，所述支撑机...

【技术特征摘要】

1.一种光掩模去胶装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光掩模去胶装置，其特征在于：所述夹爪气缸(200)被配置为：当所述喷液盒(510)由所述第一位置转动至所述第二位置时，位于左侧的所述夹爪气缸(200)松开所述光掩模(300)，且位于右侧的所述夹爪气缸(200)夹持所述光掩模(300)，当所述喷液盒(510)由所述第一位置转动至所述第三位置时，位于右侧的所述夹爪气缸(200)松开所述光掩模(300)，且位于左侧的所述夹爪气缸(200)夹持所述光掩模(300)。

3.根据权利要求2所述的光掩模去胶装置，其特征在于：还包括支撑机构(600)，所述支撑机构(600)设于两个所述夹爪气缸(200)之间的下侧，所述支撑机构(600)包括支撑件(610)和第一伸缩气缸(620)，所述第一伸缩气缸(620)与所述支撑件(610)连接并能驱动所述支撑件(610)升降，所述支撑件(610)用于在所述光掩模(300)保持水平时支撑所述光掩模(300)。

4.根据权利要求3所述的光掩模去胶装置，其特征在于：所述支撑件(610)设置为筒状结构，所述支撑件(610)内限定出下端开口的容纳腔，所述第一伸缩气缸(620)位于所述容纳腔内。

5.根据权利要求3所述的光掩模去胶装置，其特征在于：所述支撑件(610)顶端设有加热件(630)，用于在所述支撑件(610)支撑所述光掩模(300)时对所述光掩模(300)进行加热。

6.根据权利要求1所述的光掩模去胶装置，其特征在于：还包括转动设于所述工作箱(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：李弋舟，段聪，钟选飞，
申请(专利权)人：长沙韶光芯材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：