一种旋涂机制造技术

本发明专利技术公开了一种旋涂机，涉及旋涂技术领域，包括工作台组件、挡槽件、驱动组件和喷液组件，工作台组件具有真空吸附面，真空吸附面用于固定待旋涂的基板，真空吸附面设有多条负压槽，负压槽内设有多个第一导气孔；挡槽件盖设于负压槽，挡槽件具有槽体，槽体伸入负压槽，槽体的侧壁设有第二导气孔；驱动组件与工作台组件传动连接，以驱动工作台组件旋转；喷液组件具有喷液口，喷液口朝向真空吸附面。本发明专利技术的旋涂机，能够避免真空吸附面的导气孔被涂覆物阻塞，防止真空吸附面的吸附力下降。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及旋涂，特别涉及一种旋涂机。

技术介绍

1、旋涂，全称为旋转涂抹法，是一种在电子工业中常用的工艺，主要用于在基片上均匀涂覆液态涂覆材料。这一过程涉及将基片垂直于其表面轴旋转，同时将液态材料滴在基片上，利用工件旋转时产生的离心力作用，使液态材料在基片上形成均匀的薄膜。旋涂过程包括配料、高速旋转、挥发成膜三个步骤，通过控制匀胶的时间、转速、滴液量以及所用溶液的浓度、粘度来控制成膜的厚度。

2、在光掩膜板的制造过程中，需要用到旋涂工艺在光掩膜板的表面形成薄膜。不同的型号的光掩膜板其尺寸不同，并且光掩膜板的外形也不局限于圆形，还存在方形等形状。对光掩膜板进行旋涂时，通常使用真空吸附的方式对光掩膜板进行固定，然后工作台组件带动光掩膜板进行旋转。光掩膜板并不会完全覆盖工作台组件的表面，故存在涂覆物进入到工作台组件的导气孔的可能。涂覆物堵塞导气孔后，会导致工作台组件的吸力下降，光掩膜板在旋转过程中会产生偏移，甚至无法吸附光掩膜板而导致光掩膜板被甩出。

技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种旋涂机，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述负压槽（101）为弧形槽，多条所述弧形槽同轴分布。

3.根据权利要求2所述的旋涂机，其特征在于：所述弧形槽的两侧壁均设有第一台阶（102），所述槽体（210）为弧形，所述槽体（210）的两侧壁均设有第一外沿部（212），所述槽体（210）放置于所述弧形槽内，所述第一外沿部（212）置于所述第一台阶（102），所述槽体（210）的近心一侧的侧壁上设有多个所述第二导气孔（211）。

4.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述负压槽（101）为条形槽，多条所述条形槽以所...

【技术特征摘要】

1.一种旋涂机，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述负压槽（101）为弧形槽，多条所述弧形槽同轴分布。

3.根据权利要求2所述的旋涂机，其特征在于：所述弧形槽的两侧壁均设有第一台阶（102），所述槽体（210）为弧形，所述槽体（210）的两侧壁均设有第一外沿部（212），所述槽体（210）放置于所述弧形槽内，所述第一外沿部（212）置于所述第一台阶（102），所述槽体（210）的近心一侧的侧壁上设有多个所述第二导气孔（211）。

4.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述负压槽（101）为条形槽，多条所述条形槽以所述真空吸附面的旋转中心放射状分布。

5.根据权利要求3所述的旋涂机，其特征在于：所述条形槽的两侧壁均设有第二台阶（103），所述槽体（210）为条形，所述槽体（210）的两侧壁均设有第二外沿部（213），所述槽体（210）放置于所述条形槽内，所述第二外沿部（213）置于所述第二台阶（103），所述条形槽靠近所述真空吸附面的旋转中心的一侧设有卡槽（104），所述槽体（210）的一端设有卡部（214），所述卡部（214）插装于所述卡槽（104）。

6.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述第二导气孔（211）的轴线与所述槽体（210）的侧壁面呈锐角，由所述槽体（210）的内侧向外侧方向，使得所述第二导气孔（211）的轴线斜向远离所述槽体（210）的底部平面。

7.根据权利要求1所述的旋涂机，其特征在于：所述第二导气孔（211）与所述槽体（210）的底部之间的距离大于所述槽体（210）侧壁高度的1/2。

8.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：李弋舟，钟选飞，陈小虎，
申请(专利权)人：长沙韶光芯材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：