【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及电磁辐射测量设备和相关方法。
技术介绍
1、高光谱成像可用于对场景成像并从中提取光谱细节。传统上，这可以使用一系列光学带通滤光片来选择性地调整所测量的波段来实现。或者，可以使用逐点或逐行的光谱测量，并被称为“搅拌扫帚”或“推扫帚”扫描仪。还有快照成像仪，可以在一次测量中获取整个数据立方体。然而，这些方法在光学上复杂，成本高昂，在空间和光谱维度上具有耦合的不确定性和测量误差，并且通常具有长的场景获取时间。
2、传统的基于光学带通滤光片的高光谱成像(hsi)的工作原理如下。来自场景的光包含波长混合(光谱信息)的光子，放置在该场景前面的光学带通滤光片将根据滤光片的带宽传输一定范围的波长。为了传输不同的波段，需要更换滤光片。传统的可调谐滤光片(包括薄膜介电滤光片、声光可调谐滤光片和液晶可调谐滤光片)，其带宽大于3nm，这决定了该方案所达到的光谱分辨率。
3、也可以使用光栅单色仪作为提供光谱分辨率的光谱色散系统。这可以实现更高的光谱分辨率，但会显著降低信噪比。
技术实现思路
1、本本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电磁辐射测量设备，包括：
2.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，对于所述系列的多个配置中的每一个：
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述处理器被配置为使用包括确定与配置的波段相关的传感器测量和与相邻配置的波段相关的传感器测量之间的差，以及可选地调整与所述第二差分子带相关的测量值的过程，来导出所述第一差分子带的测量值。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件被配置为使得与所述系列中的参考配置的波段相关的传感器测量仅与基本上光谱不变的背景信号相关和/或基本上为零。
5.根据任一项前...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种电磁辐射测量设备，包括：
2.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，对于所述系列的多个配置中的每一个：
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述处理器被配置为使用包括确定与配置的波段相关的传感器测量和与相邻配置的波段相关的传感器测量之间的差，以及可选地调整与所述第二差分子带相关的测量值的过程，来导出所述第一差分子带的测量值。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件被配置为使得与所述系列中的参考配置的波段相关的传感器测量仅与基本上光谱不变的背景信号相关和/或基本上为零。
5.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，所述处理器被配置为将与所述系列配置相关的传感器测量输入到拟合过程中，以确定与所述传感器测量相拟合的子带的测量值，所述拟合过程结合与所述系列配置相关联的波段的细节。
6.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件被配置为按顺序进行所述系列配置。
7.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件是连续可变的，以形成所述系列配置。
8.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件是可重新配置的，以改变一个或多个滤光片介质中的光学干涉效应，以形成所述系列配置。
9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述可重新配置的滤光片组合件是可旋转和/或可滑动的，以改变所述一个或多个滤光片介质中的所述光学干涉效应。
10.根据任一项前述权利要求所述的设备，其中，所述处理器被配置为针对所述系列的不同配置利用与电磁辐射的第一特征相关的传感器测量来为子带导出与所述第一特征相关的测量值。
11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述第一特征选自由以下组成的组：强度、时间依赖性、偏振、空间分布、相位。
12.根据任一项前述权利要求所述的设...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹亚蒙，费尔南多·卡斯特罗，塞巴斯蒂安·伍德，
申请(专利权)人：国家物理实验室管理有限公司，
类型：发明
国别省市：
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