【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空镀膜，具体是一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架。
技术介绍
1、溅射镀膜是一种真空镀膜技术，是一种以一定能量的粒子(通常是带正电的氩离子)轰击固体靶材表面，使靶材原子或分子射出，淀积到基片表面的工艺。在溅射镀膜过程中，基片通过工件架安装于真空腔室内，随着工件架移动，被加工的基片在镀膜设备中完成不同工艺溅射镀膜工序。
2、目前的工件架都是针对于常规形状的基片，在工件架相对方向设置夹具，对基片进行夹持，夹具与基片易出现放电情况，而造成基片损害，并且夹具通常只能进行单个维度的调节来适应不同规格的基片。这样的工件架只能用于安装具有常规形状、大小相近的基片，对于加工异形曲面基片存在夹持不稳、甚至无法夹持安装的问题。
3、夹持不稳会导致溅射镀膜时，基片在工件架上晃动。基片的晃动会导致溅射出的原子或分子在基片表面分布不均匀，从而影响膜层的均匀性和质量。因此，在溅射镀膜过程中，需要确保工件架具有足够的稳定性和支撑力，能够牢固地固定基片，防止其在镀膜过程中出现晃动。
技术实...
【技术保护点】
1.一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，包括外工件架、内工件架、框架轨道和支撑部件，所述内工件架固定于外工件架内部，所述框架轨道固定于内工件架一侧，基片安装于框架轨道的框架内，框架轨道上安装有若干支撑部件，支撑部件位于基片四周；
2.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述外框架包括两侧梁、连接于两侧梁顶部的顶梁、连接于两侧梁底部的底梁，底梁上安装有下挡板，两侧梁上设置有锁扣，外框架下部还设置有横梁。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特...
【技术特征摘要】
1.一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，包括外工件架、内工件架、框架轨道和支撑部件，所述内工件架固定于外工件架内部，所述框架轨道固定于内工件架一侧，基片安装于框架轨道的框架内，框架轨道上安装有若干支撑部件，支撑部件位于基片四周；
2.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述外框架包括两侧梁、连接于两侧梁顶部的顶梁、连接于两侧梁底部的底梁，底梁上安装有下挡板，两侧梁上设置有锁扣，外框架下部还设置有横梁。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述上绝缘屏蔽组件包括支座、上屏蔽盖板和上屏蔽后板，支座底部垫装上绝缘板，并固定于上挡板顶部，支座侧面连接于上导向条，上导向条立于上挡板上；
4.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述下绝缘屏蔽组件包括定位板、下屏蔽后板和下屏蔽盖板，定位板底部垫装下绝缘板，并固定于底板焊接件上；
5.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述框架轨道为矩形框架，包括两条或两条以上横轨、两条或两条以上纵轨，横轨可沿纵轨上下运动。
6.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，其特征在于，所述支撑部件包括绝缘支座，绝缘支座宽度方向上的两侧壁高于长度方向上的两侧壁，较高的两侧壁上部开设有位置对应的螺纹孔，螺纹孔内各旋入一绝缘螺栓，基片置于两绝...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁帅，欧阳杰，刘国利，李国强，
申请(专利权)人：湖南玉丰真空科学技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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