【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体器件,更具体地说,涉及一种反极性led芯片及包括反极性led芯片的装置。
技术介绍
1、半导体发光二极管(light emitting diode,简称led)作为下一代绿色照明能源,已经被广泛应用于多个领域。其中,algainp材料由于其带隙可调,可实现有源区不同波段的发光,是制备红黄光led优良的外延材料。
2、algainp基四元系发光二极管通常在gaas衬底上依次生长晶格匹配的外延层,然而由于gaas材料的吸光以及出光时全反射的损耗,导致led芯片的效率比较低。为了进一步提升algainp基led芯片的亮度,一种反极性的led芯片被提出,其通过去除吸光的gaas衬底,将其余外延层结构键合至另一宽带隙衬底(如si衬底等)上,同时在非出光侧制备诸如全方向反射镜(odr)等结构增加光的出射,提高芯片的亮度。
3、但是,在传统的反极性led芯片的制备方法中,由于n面电极仅底部与外延层结构接触,因此n面电极和外延层结构的粘附力不佳;另外,由于n面电极和外延层结构中的欧姆接触层接触面积较小,无法达到最
...【技术保护点】
1.一种反极性LED芯片,其特征在于,所述反极性LED芯片包括:
2.根据权利要求1所述的反极性LED芯片,其特征在于,所述欧姆接触层在所述第一方向上的整体厚度的取值范围为2μm-4μm。
3.根据权利要求1所述的反极性LED芯片,其特征在于,所述第一膜层在所述第一方向上的厚度的取值范围为100nm-500nm。
4.根据权利要求1所述的反极性LED芯片,其特征在于,所述第二膜层在所述第一方向上的厚度的取值范围为50nm-500nm。
5.根据权利要求1所述的反极性LED芯片,其特征在于,所述第一膜层在所述第一方向上的厚
...【技术特征摘要】
1.一种反极性led芯片,其特征在于,所述反极性led芯片包括:
2.根据权利要求1所述的反极性led芯片,其特征在于,所述欧姆接触层在所述第一方向上的整体厚度的取值范围为2μm-4μm。
3.根据权利要求1所述的反极性led芯片,其特征在于,所述第一膜层在所述第一方向上的厚度的取值范围为100nm-500nm。
4.根据权利要求1所述的反极性led芯片,其特征在于,所述第二膜层在所述第一方向上的厚度的取值范围为50nm-500nm。
5.根据权利要求1所述的反极性led芯片,其特征在于,所述第一膜层在所述第一方向上的厚度为第一厚度;
6.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹金如,李晓静,辛天骄,乔元鹏,马英杰,沈冬春,陈杰,王志亮,
申请(专利权)人:江西乾照半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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