一种硅片清洗槽和硅片清洗系统技术方案

本申请实施例提供了一种硅片清洗槽和硅片清洗系统。所述硅片清洗槽包括：槽体，所述槽体内设置一具有开口的容纳腔，所述容纳腔用于容纳清洗液和花篮；加热管，所述加热管设置于所述容纳腔的底部，所述加热管用于从所述容纳腔的底部加热所述清洗液；提拉机构，所述提拉机构连接于所述槽体，所述提拉机构用于提拉所述花篮；以及挡流件，所述挡流件设置在所述容纳腔内且至少部分位于所述加热管的上方，所述挡流件用于阻挡所述加热管周围的所述清洗液朝向所述容纳腔的开口侧流动。本申请实施例所述的硅片清洗槽可以极大的提高硅片清洗的成品率。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于光伏加工，具体涉及一种硅片清洗槽和硅片清洗系统。

技术介绍

1、随着光伏技术的发展，硅片的使用越来越广泛。在硅片的生产过程中，需要使用硅片清洗槽对硅片进行清洗，以去除硅片表面的杂质，在清洗过程中需将清洗槽中的液体进行加热，并使用机械手对清洗槽内的花篮进行慢提拉操作，以尽可能的减少硅片上附着的液体。

2、然而，随着硅片尺寸越来越大以及厚度越来越薄，在硅片的清洗过程中，随着清洗过程的推进，花篮头尾两端的硅片很容易往花篮内侧倾斜，产生吸片的现象，导致了湿片和碎片的产生，降低了硅片清洗的成品率。

技术实现思路

1、本申请旨在提供一种硅片清洗槽和硅片清洗系统，以解决现有的硅片清洗槽清洗硅片过程中成品率较低的问题。

2、为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

3、第一方面，本申请公开了一种硅片清洗槽，所述硅片清洗槽包括：

4、槽体，所述槽体内设置一具有开口的容纳腔，所述容纳腔用于容纳清洗液和花篮；

5、加热管，所述加热管设置于所述容纳腔的底部，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片清洗槽，其特征在于，所述硅片清洗槽包括：

2.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)连接于所述提拉机构(12)。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)固定连接于所述提拉机构(12)；

4.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)连接于所述槽体(10)。

5.根据权利要求4所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)固定连接于所述槽体(10)；

6.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)为平面挡板或者弧形挡板。...

【技术特征摘要】

1.一种硅片清洗槽，其特征在于，所述硅片清洗槽包括：

2.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)连接于所述提拉机构(12)。

3.根据权利要求2所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)固定连接于所述提拉机构(12)；

4.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)连接于所述槽体(10)。

5.根据权利要求4所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)固定连接于所述槽体(10)；

6.根据权利要求1所述的硅片清洗槽，其特征在于，所述挡流件(13)为平...

【专利技术属性】
技术研发人员：任新刚，鲁战锋，党朋飞，张珊，冯少辉，张超，成路，
申请(专利权)人：隆基绿能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：