【技术实现步骤摘要】
本申请属于光伏加工，具体涉及一种清洗槽和硅片清洗系统。
技术介绍
1、随着光伏技术的发展，硅片的使用越来越广泛。在硅片的生产过程中，需要使用硅片清洗槽对硅片进行清洗，以去除硅片表面的杂质，在清洗过程中需将清洗槽中的液体进行加热，并使用机械手对清洗槽内的花篮进行慢提拉操作，以尽可能的减少硅片上附着的液体。
2、然而，随着硅片尺寸越来越大以及厚度越来越薄，在硅片的清洗过程中，随着清洗过程的推进，花篮头尾两端的硅片很容易往花篮内侧倾斜，产生吸片的现象，导致了湿片和碎片的产生，降低了硅片清洗的成品率。
技术实现思路
1、本申请旨在提供一种清洗槽和硅片清洗系统，以解决现有的硅片清洗槽清洗硅片过程中成品率较低的问题。
2、为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：
3、第一方面，本申请公开了一种清洗槽，用于清洗硅片，所述清洗槽包括：
4、槽体，所述槽体内设置一具有开口的容纳腔，所述容纳腔用于容纳清洗液和花篮；
5、加热管，所述加热管呈蛇形状铺...
【技术保护点】
1.一种清洗槽，用于清洗硅片，其特征在于，所述清洗槽包括：
2.根据权利要求1所述的清洗槽，其特征在于，所述加热管的铺设面积与所述容纳腔的底部面积的比值大于或者等于30％。
3.根据权利要求1所述的清洗槽，其特征在于，所述加热管(11)包括第一端管(111)、第二端管(112)以及连接在所述第一端管(111)和所述第二端管(112)之间的多个第一子加热管(113)和多个连接管(114)，所述第一端管(111)和所述第二端管(112)用于与电源连接；其中，
4.根据权利要求3所述的清洗槽，其特征在于，所述第一子加热管(113)沿第一方...
【技术特征摘要】
1.一种清洗槽，用于清洗硅片，其特征在于，所述清洗槽包括：
2.根据权利要求1所述的清洗槽，其特征在于，所述加热管的铺设面积与所述容纳腔的底部面积的比值大于或者等于30％。
3.根据权利要求1所述的清洗槽，其特征在于，所述加热管(11)包括第一端管(111)、第二端管(112)以及连接在所述第一端管(111)和所述第二端管(112)之间的多个第一子加热管(113)和多个连接管(114)，所述第一端管(111)和所述第二端管(112)用于与电源连接；其中，
4.根据权利要求3所述的清洗槽，其特征在于，所述第一子加热管(113)沿第一方向(x)延伸，多个所述第一子加热管(113)沿第二方向(y)间隔平行设置，所述第二方向(y)与所述第一方向(x)垂直。
5.根据权利要求4所述的清洗槽，其特征在于，所述容纳腔(101)包括沿第二方向(y)背离设置的第一侧(a)和第二侧(b)，所述第一端管(111)和所述第二端管(112)皆沿所述第一方向(x)延伸且靠近所述第一侧(a)设置。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：任新刚，鲁战锋，成路，张珊，张超，杜杰，
申请(专利权)人：隆基绿能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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