一种图形化复合衬底及LED芯片制造技术

技术编号:42223770 阅读:33 留言:0更新日期:2024-08-02 13:42
本技术公开了一种图形化复合衬底及LED芯片,包括衬底本体以及阵列设置于该衬底本体上的凸起结构,所述凸起结构周围设置有凸起平台,所述凸起结构和所述凸起平台之间设有沟槽,所述凸起结构、沟槽、凸起平台的表面覆盖有反射层。本技术通过设置凸起平台能够减少在裂片时DBR反射镜的随机乱裂,影响芯片发光区的问题,有效降低异常率,提高外观良率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体,具体涉及一种图形化复合衬底及led芯片。


技术介绍

1、发光二极管(led,light emitting diode)是一种半导体固体发光器件,其利用半导体pn结作为发光材料,可以直接将电转换为光。如图1显示的是传统的发光二极管的图形化衬底结构。在蓝宝石衬底1上依次生长n型半导体层、量子阱层、p型半导体层,为了提高光反射效率会在p型半导体层上设置dbr反射镜5。

2、在发光二极管的制作时会先以激光切割衬底1,再以裂片机构在沟槽3内从dbr反射镜5做劈裂,实现芯粒与芯粒之间的完全分离。在劈裂时dbr反射镜5、p型半导体层4、量子阱层3、n型半导体层2会受到物理性破坏,因p型半导体层4、量子阱层3、n型半导体层2结构属于氮化镓材料,硬度相对较高,所以划裂后不会有乱裂现象。但dbr反射镜5属于二氧化硅与三氧化二钛材料,性质易碎,因此经过劈裂后,会无规则的随机乱裂,影响芯片发光区。


技术实现思路

1、本技术的目的在于:提供一种图形化复合衬底,能够减少在裂片时dbr反射镜的随机乱裂,影响芯本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种图形化复合衬底,其特征在于:包括衬底本体(1)以及阵列设置于该衬底本体(1)上的凸起结构(2),所述凸起结构(2)周围设置有凸起平台(4),所述凸起结构(2)和所述凸起平台(4)之间设有沟槽(3),所述凸起结构(2)、沟槽(3)、凸起平台(4)的表面覆盖有反射层(5)。

2.根据权利要求1所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述凸起平台(4)靠近所述凸起结构(2)的一侧表面为倾斜面,倾角为30°~90°。

3.根据权利要求1所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述凸起结构(2)为发光结构,包括第一半导体层(6)、第二半导体层(7)以及位于第一半导体层(...

【技术特征摘要】

1.一种图形化复合衬底,其特征在于:包括衬底本体(1)以及阵列设置于该衬底本体(1)上的凸起结构(2),所述凸起结构(2)周围设置有凸起平台(4),所述凸起结构(2)和所述凸起平台(4)之间设有沟槽(3),所述凸起结构(2)、沟槽(3)、凸起平台(4)的表面覆盖有反射层(5)。

2.根据权利要求1所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述凸起平台(4)靠近所述凸起结构(2)的一侧表面为倾斜面,倾角为30°~90°。

3.根据权利要求1所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述凸起结构(2)为发光结构,包括第一半导体层(6)、第二半导体层(7)以及位于第一半导体层(6)与第二半导体层(7)之间的发光层(8),所述反射层(5)为dbr反射层。

4.根据权利要求3所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述衬底本体(1)与所述第一半导体层(6)之间设置有覆盖层(9),所述凸起结构(2)和凸起平台(4)设置在所述覆盖层(9)上。

5.根据权利要求4所述的一种图形化复合衬底,其特征在于:所述沟槽(3)暴露出所述覆盖层(9)的上...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋宗勳王东明芦玲
申请(专利权)人:淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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