发光二极管芯片及其检测方法、芯片检测及转移装置制造方法及图纸

技术编号:42219305 阅读:30 留言:0更新日期:2024-07-30 18:59
本发明专利技术涉及一种发光二极管芯片及其检测方法、芯片检测及转移装置。所述发光二极管芯片包括:外延结构、第一电极以及第二电极。外延结构包括:沿第一方向层叠的第一型半导体层、多量子阱层和第二型半导体层。第一电极设置于第一型半导体层背离多量子阱层的一侧,且沿第二方向伸出于外延结构两侧;第二方向与第一方向正交。第二电极设置于第二型半导体层背离多量子阱层的一侧,且沿第二方向伸出于外延结构两侧。其中,第一电极和第二电极伸出于外延结构同一侧的长度不同。上述发光二极管芯片利于提高检测及修复效率,进而提高巨量转移效率及良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示,尤其涉及一种发光二极管芯片及其检测方法、芯片检测及转移装置


技术介绍

1、微型发光二极管(micro-led)芯片的巨量转移以及检测修复工艺是制约其量产化的最大问题点。

2、然而,在micro-led芯片的制备工艺流程中,由于芯片的数量庞大,因此芯片的检测及修复的难度非常大,且检测及修复的效率较低。

3、因此,如何提高芯片的检测及修复效率,进而提高芯片的巨量转移效率,是亟需解决的问题。


技术实现思路

1、鉴于上述现有技术的不足,本申请的目的在于提供一种发光二极管芯片及其检测方法、芯片检测及转移装置,旨在解决如何提高芯片的检测及修复效率,进而提高芯片的巨量转移效率及良率。

2、本申请实施例提供一种发光二极管芯片,包括:外延结构、第一电极以及第二电极。外延结构包括:沿第一方向层叠的第一型半导体层、多量子阱层和第二型半导体层。第一电极设置于第一型半导体层背离多量子阱层的一侧,且沿第二方向伸出于外延结构两侧;第二方向与第一方向正交。第二电极设置于第二型半导体层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管芯片,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的发光二极管芯片,其特征在于,还包括:

3.如权利要求2所述的发光二极管芯片,其特征在于,所述包覆结构的宽度沿所述第二方向呈线性变化;所述包覆结构的宽度为所述包覆结构在所述第一方向上的尺寸。

4.一种芯片检测及转移装置,其特征在于,包括:

5.如权利要求4所述的芯片检测及转移装置,其特征在于,还包括:

6.一种发光二极管芯片的检测方法,其特征在于,包括:

7.如权利要求6所述的发光二极管芯片的检测方法,其特征在于,还包括:

>8.一种发光二极管...

【技术特征摘要】

1.一种发光二极管芯片,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的发光二极管芯片,其特征在于,还包括:

3.如权利要求2所述的发光二极管芯片,其特征在于,所述包覆结构的宽度沿所述第二方向呈线性变化;所述包覆结构的宽度为所述包覆结构在所述第一方向上的尺寸。

4.一种芯片检测及转移装置,其特征在于,包括:

5.如权利要求4所述的芯片检测及转移装置,其特征在于,还包括:

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【专利技术属性】
技术研发人员:潘飞刘政明
申请(专利权)人:重庆康佳光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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