【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻,尤其涉及一种对准光路调整装置及系统。
技术介绍
1、对准技术作为光刻机的关键技术之一,其性能指标直接影响光刻机的整机性能;为了提高掩模与光刻对象的对准精度,同时避免干扰物镜的设计自由度,基于位相衍射光栅的离轴对准技术逐渐应用于光刻机的对准系统中,该对准系统一般采用红、绿双色光源入射光学模块,入射光经过光学模块中光学元件的作用后到达末端的对准物镜,经过对准物镜的汇聚重合后射出到达光刻对象的对准标记,对准标记产生反射式衍射光束,随后红光和绿光的不同级次衍射光被分离、成像于相应的光电探测器,从而实现对光刻对象的相对位置计算。
2、然而现有对准系统的对准精确度较差,影响光刻机的光刻产品良率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种对准光路调整装置及系统,以解决现有对准系统的对准精确度较差,影响光刻机的光刻产品良率的技术问题。
2、为解决上述问题,本技术提供一种对准光路调整装置,用于调整光学模块的对准光路,所述对准光路调整装置包括基座和光束质量分析仪,所述
...【技术保护点】
1.一种对准光路调整装置,用于调整光学模块(10)的对准光路,其特征在于,所述对准光路调整装置包括基座(100)和光束质量分析仪(200),所述光束质量分析仪(200)连接于所述基座(100)且能够相对所述基座(100)沿Z向移动,其中,所述基座(100)用于连接光学模块(10)的外壳(11),所述光束质量分析仪(200)的显示屏(210)与光学模块(10)的出射孔(11a)相对应,用于接收经所述出射孔(11a)射出的出射光。
2.根据权利要求1所述的对准光路调整装置,其特征在于,所述对准光路调整装置还包括变焦准直调整组件(300),所述变焦准直调整组件(
...【技术特征摘要】
1.一种对准光路调整装置,用于调整光学模块(10)的对准光路,其特征在于,所述对准光路调整装置包括基座(100)和光束质量分析仪(200),所述光束质量分析仪(200)连接于所述基座(100)且能够相对所述基座(100)沿z向移动,其中,所述基座(100)用于连接光学模块(10)的外壳(11),所述光束质量分析仪(200)的显示屏(210)与光学模块(10)的出射孔(11a)相对应,用于接收经所述出射孔(11a)射出的出射光。
2.根据权利要求1所述的对准光路调整装置,其特征在于,所述对准光路调整装置还包括变焦准直调整组件(300),所述变焦准直调整组件(300)包括转动套(320),所述转动套(320)用于套设于光学模块(10)中进光光纤输出端的旋转器;
3.根据权利要求1所述的对准光路调整装置,其特征在于,所述基座(100)设有位移调整组件(400),所述位移调整组件(400)用于连接光学模块(10)的进光光纤接头并对其进行x-y向位移调整。
4.根据权利要求3所述的对准光路调整装置,其特征在于,所述基座(100)设有第一通孔,所述位移调整组件(400)包括固接于所述基座(100)的位移调整台(410),所述位移调整台(410)设有与所述第一通孔相对应的第二通孔(411),所述第二通孔(411)的孔壁设有相对的两组x向螺纹孔(412)和相对的两组y向螺纹孔(413),所述x向螺纹孔(412)旋接有x向调整螺杆(420),所述y向螺纹孔(413)旋接有y向调整螺杆;
5.根据权利要求4所述的对准光路调整装置,其特征在于,所述位移调整台(410)连接有角度调整组件(500),所述角度调整组件(500)用于连...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘立,熊自勤,
申请(专利权)人:北京华卓精科科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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