【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及介孔材料制备及其应用领域，具体涉及一种改性的介孔二氧化硅煅烧物，及其在制备光刻胶组合物的应用，一种光刻胶其制备方法和应用。
技术介绍
1、介孔二氧化硅是一种具有极大表面积的稳定的分子笼结构的绿色高分子材料，在催化、电子、药物等诸多应用领域具有商业价值。在半导体制造过程中，光刻胶是实现光刻精确的关键因素，光刻胶材料对于半导体至关重要，光刻胶中最主要的成分是聚合物及光敏剂，含有光敏剂活性较高，同时无论是正胶还是负胶，其中含有易于聚合-解离的基团，这些导致其不稳定。过高的温度可引发预期外的化学反应，例如聚合，这可以导致光刻胶粘度、含量、光敏性的变化，降低质量，甚至降解。而光照更导致光刻胶性能的消失，影响到光刻图案的精度和分辨率。基于上述原因，光刻胶的保存期往往比较短，越是对精密度分辨率要求高的光刻胶产品，保存条件越苛刻。 除了严格避光，还需要控制温湿度等。在使用和运输中，都导致光刻胶性能的下降。
2、目前的光刻胶是由感光材料、溶剂、助剂等组成，主体材料分聚合物类、分子玻璃型、金属氧化物等。聚合物链段尺寸往往在nm范围...
【技术保护点】
1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括如下按重量份计的组分: 酚醛类树脂10-30份，有机溶剂50-80份，光敏剂2-5份，纳米介孔二氧化硅煅烧物1-5份，助剂2-5份。
2.权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，其中有机溶剂选自丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、乙酸丁酯、乳酸丁酯、乳酸乙酯、丙二酸二乙酯、邻苯二甲酸二乙酯、甲基异丁基酮、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或多种；光敏剂为2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,1,5-重氮萘醌磺酸中的一种...
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括如下按重量份计的组分: 酚醛类树脂10-30份，有机溶剂50-80份，光敏剂2-5份，纳米介孔二氧化硅煅烧物1-5份，助剂2-5份。
2.权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，其中有机溶剂选自丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、乙酸丁酯、乳酸丁酯、乳酸乙酯、丙二酸二乙酯、邻苯二甲酸二乙酯、甲基异丁基酮、n-甲基吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺中的一种或多种；光敏剂为2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,1,5-重氮萘醌磺酸中的一种或多种；助剂选自硅氧烷、环氧乙烷、全氟辛基磺酸酯中的一种或多种。
3.权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述酚醛类树脂为线性酚醛树脂，10000≤重均分子量≤25000，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯淑珍，张月红，
申请(专利权)人：上海艾深斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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