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本发明涉及应用于光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及其制备方法。一种光刻胶组合物，包括如下组分：聚合物树脂10‑30份，有机溶剂50‑80份，光敏剂2‑5份，配料1‑3份；该组合物延长了光刻胶的保质期，并具有胶体均匀的特性。...
该专利属于上海艾深斯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海艾深斯科技有限公司授权不得商用。

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