一种真空等离子体处理装置及其控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于等离子表面处理技术，尤其涉及一种真空等离子体处理装置及其控制方法，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；所述真空室设置有密封门，密封门朝向真空室的一侧设置有密封条，真空室内设置有放置架以及等离子体发生组件，所述等离子体发生组件用于使通入的选定气体形成等离子体，所述等离子体发生组件包括电离组件以及供气组件；所述真空室的背面设置有真空组件，所述真空组件用于使真空室内形成真空环境；所述控制组件用于所述等离子体发生组件以及所述真空组件的工作控制。本发明专利技术设置密封门及真空组件可以得到稳定的真空环境，由电离组件及供气组件产生的配合产生等离子体对产品进行表面处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于等离子表面处理技术，尤其涉及一种真空等离子体处理装置及其控制方法。

技术介绍

1、目前点胶、喷墨打印、粘接等工艺在提高产品性能方面取得了很大的进步，但仍然面临质量不可靠，不稳定的问题。

2、其中，部分产品表面光滑，吸附力差是主要原因。对此，通过等离子机处理这类产品，可以显著提高产品表面的吸附力，使点胶，喷墨，粘接等达到预期效果。真空等离子表面处理相较普通表面处理方式，可以作用于产品的细小缝隙和深孔，不受产品结构约束，处理得更彻底。

3、等离子体作用于产品表面时，要避免环境中的杂质与等离子体共同作用于产品产生不可控的影响或者环境中的杂质消耗掉等离子体，因此要求产品进行等离子体处理时处于一个洁净的环境。如何为产品提供一个稳定而洁净的环境以便于提高等离子体处理的质量是需要解决的问题。

技术实现思路

1、本专利技术实施例的目的在于提供一种真空等离子体处理装置，旨在解决如何为产品提供一个稳定而洁净的环境以便于提高等离子体处理的质量的问题。

2、本专利技术实施例是这样实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空等离子体处理装置，其特征在于，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；

2.根据权利要求1所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述电离组件包括设置于所述真空室背面的真空电极，所述真空电极远离所述真空室的一端连接RF射频电源，另一端与设置于所述真空室内的射频电源放电极连接。

3.根据权利要求2所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述电离组件还包括设置于所述真空室内的条状铜板、放电极板以及射频电源放电极；

4.根据权利要求1所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述供气组件包括设置于所述真空室背面的第一电磁...

【技术特征摘要】

1.一种真空等离子体处理装置，其特征在于，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；

2.根据权利要求1所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述电离组件包括设置于所述真空室背面的真空电极，所述真空电极远离所述真空室的一端连接rf射频电源，另一端与设置于所述真空室内的射频电源放电极连接。

3.根据权利要求2所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述电离组件还包括设置于所述真空室内的条状铜板、放电极板以及射频电源放电极；

4.根据权利要求1所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述供气组件包括设置于所述真空室背面的第一电磁阀以及第二电磁阀；

5.根据权利要求1所述的真空等离子体处理装置，其特征在于，所述真空组件包括设置于真空室背面的抽真空管道阀，所述抽真空管道阀的一端通过波纹管与真空泵连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：何兰玉，罗富峰，赖福业，汪太年，
申请(专利权)人：深圳子柒科技有限公司，
类型：发明
国别省市：