【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造，尤其涉及一种液体输送管路、方法及半导体刻蚀系统。
技术介绍
1、在半导体制造的精密过程中，维持一个稳定且受控的环境对于确保产品质量和产量至关重要。湿度控制是其中的一个关键环节，尤其是在光刻、蚀刻、清洗、化学机械抛光(cmp)和封装等步骤中，湿度的微小变化都可能导致产品缺陷，影响整个生产线的运行效率和产品良率。因此，半导体生产过程中对湿度控制技术有着极高的要求。
2、传统的湿度控制设备在半导体制造过程中面临多个技术难题。如wvdm模块(deionized water vapor delivery module即去离子水蒸汽输送模块)，它用于精确地控制半导体制造过程中的湿度水平。其在输送超高纯度蒸汽时，容易受到水质和管道系统中的污染物影响，如微小的气泡和颗粒物，这些都可能导致半导体器件性能下降，甚至造成产品报废。此外，循环水泵液压下的di water携带的气体也可能引发wvdm(去离子水蒸汽输送模块)宕机，从而影响生产效率和产品良率。wvdm模块的高精密性要求其进水质量极高，任何微小的气泡输入都可能导致...
【技术保护点】
1.一种液体输送管路，设置在水蒸气输送模块的进水端，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，还包括：
3.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，所述第一时间为5s。
4.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，所述气泡检测装置为红外气泡传感器。
5.如权利要求1-4任一项所述的液体输送管路，其特征在于，还包括：输送控制模块，所述输送控制模块被配置在所述水动力模块和所述气泡检测管路之间或所述三通阀的第三阀门与所述水蒸气输送模块之间。
6.如权利要求5所述的液体输送管路，其特...
【技术特征摘要】
1.一种液体输送管路，设置在水蒸气输送模块的进水端，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，还包括：
3.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，所述第一时间为5s。
4.如权利要求1所述的液体输送管路，其特征在于，所述气泡检测装置为红外气泡传感器。
5.如权利要求1-4任一项所述的液体输送管路，其特征在于，还包括：输送控制模块，所述输送控制模块被配置在所述水动力模块和所述气泡检测管路之...
【专利技术属性】
技术研发人员：夏军，
申请(专利权)人：物元半导体技术青岛有限公司，
类型：发明
国别省市：
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