一种用于硅光模块的大功率光源COC及硅光模块、共晶方法技术

技术编号:42108119 阅读:59 留言:0更新日期:2024-07-25 00:31
本发明专利技术涉及一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,在芯片N面镀金层下镀含有磁性材料的合金层;由共晶贴片机的预热台对陶瓷热沉预热,预热温度小于250℃;将预热陶瓷热沉转于共晶贴片机的加热台上,并由共晶贴片机吸嘴吸附芯片,然后开启加热台,温度为260℃~270℃,吸嘴下压以让芯片与陶瓷热沉上处于软化状态的金锡焊料粘接,持续时间2~4s;将其转入氮气箱内的程控加热台上,并向氮气箱内持续通入氮气以排空空气,开启强磁场,强磁场将让芯片的合金层产生向下的吸力,以挤压金锡焊料,开始在25~320℃温度范围内阶梯升温降温以完成共晶。有益效果为:提升共晶贴片机产出率,节省氮气以及提高共晶质量和良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硅光模块,具体涉及一种用于硅光模块的大功率光源coc及硅光模块、共晶方法。


技术介绍

1、硅光模块采用大功率dfb芯片(激光器芯片),为提升光功率,其长度在800um~1000um,比普通250um左右的dfb芯片长很多,此外,为提高散热会采用p面朝下的方式共晶(共晶步骤如下:先对陶瓷热沉预热,预热温度为250℃以下,共晶的金锡焊料熔点在278℃左右,所以预热不会导致金锡焊料融化;将预热陶瓷热沉转于共晶贴片机的加热台上,并由共晶贴片机吸嘴吸附芯片,然后开启加热台,温度为320℃左右,吸嘴6下压以让芯片1与陶瓷热沉4上处于液态的金锡焊料接触,持续时间10s以上;吹氮气降温,每个coc单独吹纯净干燥氮气,持续时间15s左右,如图1所示),芯片有源区更靠近p面,因此用于硅光模块的芯片共晶过程中的热应力更大(对温度和吸嘴压力敏感,而吸嘴中间带有真空孔,仅边缘对芯片有压力),实际共晶中采用阶梯升温和降温的方式共晶,所以导致整个共晶时间很长,使得昂贵的共晶贴片机浪费时间极大,通常为15~30s才能产出一个coc(即chip onceramic,激光器芯片本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在于,所述STEP1中磁性材料为铁、钴、镍中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在于,所述磁性材料为镍,所述合金层(2)的厚度为0.5um~2um。

4.根据权利要求3所述的一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在于,所述合金层(2)为钛镍金或铂镍金。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅光模块的大功率光源COC共晶方法,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种用于硅光模块的大功率光源coc共晶方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种用于硅光模块的大功率光源coc共晶方法,其特征在于,所述step1中磁性材料为铁、钴、镍中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅光模块的大功率光源coc共晶方法,其特征在于,所述磁性材料为镍,所述合金层(2)的厚度为0.5um~2um。

4.根据权利要求3所述的一种用于硅光模块的大功率光源coc共晶方法,其特征在于,所述合金层(2)为钛镍金或铂镍金。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅光模块的大功率光源coc共晶方法,其特征在于,所述step3中持续时间为3s。

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【专利技术属性】
技术研发人员:方文银彭开盛
申请(专利权)人:武汉钧恒科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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