【技术实现步骤摘要】
本公开的实施例主要涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及用于版图处理的方法、设备和介质。
技术介绍
1、电路版图（又可以简称为版图）是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列几何图形，其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制造商根据这些数据来制造掩模。掩模上的版图图案决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。
2、随着集成电路制造工艺的技术节点的减小，集成电路中的目标图案之间的距离减小，并且掩模上与目标图案相对应的版图图案的密度增加。由于光波会在掩模的版图图案处发生衍射，导致实际形成的图案与版图图案相比产生失真。为此，已经提出光学邻近效应修正（opc）来调整掩模的版图图案，以便形成期望的目标图案。opc通过改变掩模上的图形形状，来改变光刻过程中晶圆表面的光强分布，从而补偿由光学邻近效应导致的图形转移失真。
技术实现思路
1、在本公开的第一方面中，提供了一种用于版图处理的方法。在该方法中，获取与参考版图中的至少一个图形段相对应的编码表示。编码表示用于表征至少...
【技术保护点】
1.一种用于版图处理的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述编码表示和所述至少一个修正量，构建用于光学邻近效应修正的修正信息集包括：
3.根据权利要求2所述的用于版图处理的方法，其特征在于，确定关联于所述编码表示中的第一编码表示的一组修正量包括：
4.根据权利要求2所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述一组修正量确定针对所述第一编码表示的第一修正量包括：
5. 根据权利要求1所述的用于版图处理的方法，其特征在于，获取与参考版图中的至少一个图形段相对应的编码表示包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于版图处理的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述编码表示和所述至少一个修正量，构建用于光学邻近效应修正的修正信息集包括：
3.根据权利要求2所述的用于版图处理的方法，其特征在于，确定关联于所述编码表示中的第一编码表示的一组修正量包括：
4.根据权利要求2所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述一组修正量确定针对所述第一编码表示的第一修正量包括：
5. 根据权利要求1所述的用于版图处理的方法，其特征在于，获取与参考版图中的至少一个图形段相对应的编码表示包括：
6.根据权利要求5所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述第一区域中的一个或多个版图图形，生成与所述第一图形段相对应的第一编码表示包括：
7.根据权利要求5所述的用于版图处理的方法，其特征在于，基于所述第一区域中的一个或多个版图图形，生成与所述第一图形段相对应的第一编码表示包括：
8.根据权利要求1所述的用于版图处理的方法，其特征在于，所述至少一个图形...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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