光学装置以及光学检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光学装置以及光学检测方法。所述光学装置包括：光学处理模块，以预设角度通过物镜向待处理样品发射处理光，通过所述物镜的处理光用于处理样品，所述光学处理模块的视场的中心位于所述第一测量点与第二测量点之间；处理器，用于根据所述第一相对距离和/或第二相对距离获取光学处理模块的视场的中心与检测基准面之间的中心相对距离；控制器，用于使光学处理模块与样品根据所述中心相对距离相对移动，以调整所述光学处理模块的聚焦情况。本发明专利技术通过多点检焦模块能够检测多个检测点的相对距离，处理器根据多个相对距离获取光学处理模块的离焦情况，从而能够提高检测精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体检测领域，尤其涉及一种光学装置以及光学检测方法。

技术介绍

1、表面检测装置是半导体测试领域的重要装置之一。在做表面检测的过程中，检测装置的成像系统需要与测试样品表面产生横向的相对位移，以对多个区域进行检测。由于样品表面并非平整，因此成像系统在相对位移的过程中需要检测样品表面的相对高度，提供给成像系统实施对焦等相关操作。

2、因此，如何提高快速检测样品表面的相对高度，提高像系统的对焦效率，是现有技术需要解决问题。

技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种光学装置以及光学检测方法，能够提高检测速度和精度。

2、为了解决上述问题，本专利技术提供了一种光学装置，包括：检焦单元，通过物镜分别向待处理样品表面的第一检测点和第二检测点发射第一测距光和第二测距光；所述第一测距光经待处理样品反射形成第一信号光，所述第二测距光经待处理样品反射形成第二信号光，所述第一信号光用于检测基准面与第一检测点之间的第一相对距离，所述第二信号光用于检测基准面与第二检测点之间的第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述处理器具体用于根据多个相对距离之间的线性组合获取所述中心相对距离；或者，所述处理器具体用于对多个相对距离进行曲面拟合获取拟合面，并根据所述光学处理模块的视场中心位置在所述拟合面上获取所述中心相对距离。

3.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，所述多个检测点关于光学处理模块的视场中心呈中心对称排列；所述处理器具体用于根据所述多个检测点的相对距离的平均值获取所述中心相对距离。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述检焦单元包括：p>

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【技术特征摘要】

1.一种光学装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述处理器具体用于根据多个相对距离之间的线性组合获取所述中心相对距离；或者，所述处理器具体用于对多个相对距离进行曲面拟合获取拟合面，并根据所述光学处理模块的视场中心位置在所述拟合面上获取所述中心相对距离。

3.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，所述多个检测点关于光学处理模块的视场中心呈中心对称排列；所述处理器具体用于根据所述多个检测点的相对距离的平均值获取所述中心相对距离。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，所述检焦单元包括：

5.根据权利要求4所述的光学装置，其特征在于，所述入射组件包括：

6.根据权利要求4或5所述的光学装置，其特征在于，所述入射组件还包括孔径光阑组件和光束分离组件中的一者或两者组合，所述孔径光阑组件用于限制入射至所述待处理样品的第一测距光和第二测距光的角度，使入射至待处理样品的第一测距光和第二测距光包括倾斜入射至待处理样品的倾斜入射光，所述孔径光阑还用于阻挡初始光束中的反射部分光，所述反射部分光经过物镜形成的光与所述倾斜入射光关于所述待处理样品表面法线对称；待处理样品沿表面法线方向反射的第一信号光为第一主信号光，被待处理样品沿表面法线方向反射的第二信号光为第二主信号光；

7.根据权利要求6所述的光学装置，其特征在于，所述入射组件还包括管镜，所述管镜和物镜组合使视场光阑与所述基准面共轭；若所述入射组件包括孔径光阑，所述孔径光阑位于所述管镜与所述物镜之间，所述视场光阑位于所述管镜的后焦面。

8.根据权利要求5所述的光学装置，其特征在于，所述入射组件还包括：准直镜，所述准直镜用于对所述光源发射的初始光进行准直，所述光源位于所述准直镜焦平面；入射至所述视场光阑的初始光束为平行光；所述出射组件包括探测器，用于根据第一测距光在探测器光敏面形成的光斑位置获取第一相对距离，根据所述第二测距光在探测器光敏面的光斑位置获取第二相对距离。

9.根据权利要求4所述的光学装置，其特征在于，所述出射组件还包括：汇聚透镜，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青格乐，王岩松，
申请(专利权)人：深圳镭赫技术有限公司，
类型：发明
国别省市：