半导体装置制造方法及图纸

提供一种新颖半导体装置。本发明专利技术的一个方式是一种半导体装置，包括：第一组件；第二组件；以及指令部，其中，第一组件包括具有在被供电的状态下储存第一设定信息的功能的第一存储电路以及具有在不被供电的状态下储存第一设定信息的功能的第二存储电路，第二组件包括具有在被供电的状态下储存第二设定信息的功能的第三存储电路以及具有在不被供电的状态下储存第二设定信息的功能的第四存储电路，指令部具有控制是否对第一组件和第二组件的每一个供电的功能，并且，第二存储电路及第四存储电路都包括在形成沟道的半导体层中包含金属氧化物的晶体管。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的一个方式涉及一种半导体装置。尤其是，本专利技术的一个方式涉及一种包括存储装置的半导体装置。尤其是，本专利技术的一个方式涉及一种包括非易失性存储装置的半导体装置。注意，本专利技术的一个方式不局限于上述。本说明书等所公开的专利技术的一个方式的涉及一种物体、方法、驱动方法或制造方法。另外，本专利技术的一个方式涉及一种工序(process)、机器(machine)、产品(manufacture)或者组合物(composition ofmatter)。因此，具体而言，作为本说明书等所公开的本专利技术的一个方式的的一个例子，可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、光学装置、摄像装置、照明装置、运算装置、控制装置、存储装置、输入装置、输出装置、输入输出装置、信号处理装置、电子计算机、电子设备、它们的驱动方法或它们的制造方法。

技术介绍

1、cpu(central processing unit：中央处理器)、mpu(micro processing unit：微处理单元)或mcu(micro controller unit：微控制单元)等通过逐次进本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体装置，包括：

2.根据权利要求1所述的半导体装置，

3.根据权利要求1所述的半导体装置，

4.一种半导体装置，包括：

5.根据权利要求4所述的半导体装置，

6.根据权利要求4所述的半导体装置，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种半导体装置，包括：

2.根据权利要求1所述的半导体装置，

3.根据权利要求1所述的半导体装置，

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【专利技术属性】
技术研发人员：黑川义元，藤田雅史，大嶋和晃，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：