【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基于疏水性(甲基)丙烯酸酯单体和低聚物的液体印模组合物,该组合物可通过暴露于光化辐射而固化。此外,本专利技术涉及该印模组合物用于制造印模、特别是用于压印工艺的印模的用途。
技术介绍
1、在现有技术中,已知在所谓的压印工艺中构建结构的各种可能性。这些工艺通常在面板或晶片级别上进行,以能够同时制造多个结构。
2、典型的压印工艺包括提供印模,例如,所述印模可以由金属、硅酮或有机材料组成。根据要压印的产品所需的目标几何形状,印模具有压印图案。此外,除了合适的基底,还需要可固化的压印组合物,其填充压纹图案的空腔并描绘出所需的目标结构。在最简单的实施过程中,将可固化组合物与基底和印模接触。然后,通过加热和/或暴露至光化辐射使该组合物固化。随后,将印模和基底与固化的组合物分离。
3、在工业水平上,所述工艺尤其用于并行构建多个光学器件(例如透镜)。这对压印质量提出了很高的挑战,压印质量既取决于所使用的组合物,也主要取决于所使用的印模材料。除了高压印质量外,还期望印模可以用于最大数量的复制工艺。除了机械性能外,尤其是
...【技术保护点】
1.一种可自由基辐射固化的印模组合物,所述组合物包含以下成分,各自基于所述组合物的总重量:
2.根据权利要求1所述的印模组合物,其中,处于液态状态的所述组合物在层厚200μm下在跨越250-780nm范围的透射率为80%、优选超过90%。
3.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(A)的平均摩尔质量Mn为500g/mol-20,000g/mol、优选1,000g/mol-15,000g/mol。
4.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(B)包含具有9至13个碳原子的脂肪族烃残基。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种可自由基辐射固化的印模组合物,所述组合物包含以下成分,各自基于所述组合物的总重量:
2.根据权利要求1所述的印模组合物,其中,处于液态状态的所述组合物在层厚200μm下在跨越250-780nm范围的透射率为80%、优选超过90%。
3.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(a)的平均摩尔质量mn为500g/mol-20,000g/mol、优选1,000g/mol-15,000g/mol。
4.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(b)包含具有9至13个碳原子的脂肪族烃残基。
5.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(b)包含至少部分氟取代的烃残基。
6.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,成分(c)是至少部分氟取代的。
7.根据前述权利要求中任一项所述的印模组合物,其特征在于,所述组合物以按重量计0-15%的比例包含至少一...
【专利技术属性】
技术研发人员:拉莫娜·辛格尔,斯特凡·辛格尔,丹尼斯·胡伯纳,菲力克斯·斯塔克,
申请(专利权)人:德路工业胶粘剂有限两合公司,
类型:发明
国别省市:
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