【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅氧化合物的生产制备，尤其涉及一种蒸发沉积一体化真空炉及其应用。
技术介绍
1、一氧化硅是一种宽带隙半导体光学材料，是用于制备光学镀膜、锂离子电池负极材料的重要原料，其制备方法多为将金属硅与氧化硅的混合物在真空和高温下反应，生产一氧化硅的蒸汽，在低温下沉积。
2、目前，一氧化硅的生产设备多为单体式真空炉，仅为单纯生产一氧化硅，不能在生成一氧化硅的同时对基质进行一氧化硅沉积，设备生产耗能高，反应时间长，无法实现对同一炉体的高效利用，对行业的需求表现较弱，对设备、能源的利用率较低，尤其不能满足小批量快速沉积成品的快速产出。
3、因此，急需一种能够解决上述问题的一种可沉积卧式真空炉，在制备的同时可实现一氧化硅的沉积。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种蒸发沉积一体化真空炉及其应用，在材料制备的同时实现沉积。
2、为此，第一方面，本专利技术实施例提供了一种蒸发沉积一体化真空炉，包括：炉体、加热反应器、反应冷却装置、冷却收集器、电机、滚动轮...
【技术保护点】
1.一种蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述蒸发沉积一体化真空炉包括：炉体、加热反应器、反应冷却装置、冷却收集器、电机、滚动轮、联动轴和抽真空装置；
2.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述固定半炉体的末端具有第一过渡区，所述可移动半炉体的前端具有第二过渡区，所述第一过渡区与所述第二过渡区对准，通过所述机械卡扣相连接用以将所述可移动半炉体与所述固定半炉体固定连接。
3.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述蒸发沉积一体化真空炉还包括：
4.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述蒸发沉积一体化真空炉包括：炉体、加热反应器、反应冷却装置、冷却收集器、电机、滚动轮、联动轴和抽真空装置；
2.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述固定半炉体的末端具有第一过渡区，所述可移动半炉体的前端具有第二过渡区，所述第一过渡区与所述第二过渡区对准，通过所述机械卡扣相连接用以将所述可移动半炉体与所述固定半炉体固定连接。
3.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述蒸发沉积一体化真空炉还包括：
4.根据权利要求1所述的蒸发沉积一体化真空炉，其特征在于，所述加热反应器包括：加热反应罐体、加热装置和保温装置；
【专利技术属性】
技术研发人员：张东跃，罗飞，
申请(专利权)人：溧阳天目先导电池材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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