除草衍生物制造技术

技术编号:41883362 阅读:19 留言:0更新日期:2024-07-02 00:38
披露了具有式(I)的化合物,其中取代基如权利要求1中所定义。本发明专利技术进一步涉及包含具有式(I)的化合物的除草组合物并且涉及具有式(I)的化合物用于控制杂草、特别是在有用植物的作物中的杂草的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种具有式(I)的化合物:

2.根据权利要求1所述的化合物,其中,R1是杂芳基,其中所述杂芳基部分是包含1或2个单独地选自N和S的杂原子的5元或6元芳香族环,并且其中所述杂芳基部分任选地被1或2个可以相同或不同的由R8表示的基团取代。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的化合物,其中,R1是杂芳基,其中所述杂芳基部分是包含1或2个氮杂原子的6元芳香族环,并且其中所述杂芳基部分任选地被1或2个可以相同或不同的由R8表示的基团取代。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物,其中,R2是卤素、氰基、乙酰基或N-甲氧基-C-甲基-碳酰亚胺基。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种具有式(i)的化合物:

2.根据权利要求1所述的化合物,其中,r1是杂芳基,其中所述杂芳基部分是包含1或2个单独地选自n和s的杂原子的5元或6元芳香族环,并且其中所述杂芳基部分任选地被1或2个可以相同或不同的由r8表示的基团取代。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的化合物,其中,r1是杂芳基,其中所述杂芳基部分是包含1或2个氮杂原子的6元芳香族环,并且其中所述杂芳基部分任选地被1或2个可以相同或不同的由r8表示的基团取代。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物,其中,r2是卤素、氰基、乙酰基或n-甲氧基-c-甲基-碳酰亚胺基。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物,其中,r3是氢或c1-c3烷基。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的化合物,其中,r4、r5和r6都是氢。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的化合物,其中,r8是卤素、氰基、c1-c4烷基、c1-c4烷氧基、c1-c3卤代烷基、c1-c3卤代烷氧基、c1...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·A·莫里斯L·沃尔利Z·J·安德森
申请(专利权)人:先正达农作物保护股份公司
类型:发明
国别省市:

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