用于真空镀膜腔的真空摆阀及其工作方法技术

本发明专利技术提供了一种用于真空镀膜腔的真空摆阀及其工作方法，其中，用于真空镀膜腔的真空摆阀包括：阀体、阀板、驱动机构以及转动式支撑组件；所述阀板转动设置在所述阀体的内腔中上；所述驱动机构适于驱动所述阀板将所述阀体的内腔中的阀口打开或关闭；所述转动式支撑组件套设在所述阀板与所述阀体之间，且远离真空侧设置；所述阀板适于在打开阀口时，驱动转动式支撑组件转动。通过在阀板与阀体之间设置转动式支撑组件对垫片的位置进行调节，在阀板每次打开时，推动垫片转动，使阀板与垫片的受力点发生改变，从而延缓垫片的变形时间，提高真空摆阀的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于真空阀领域，具体涉及一种用于真空镀膜腔的真空摆阀及其工作方法。

技术介绍

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

2、真空镀膜时，需要对真空镀膜腔抽真空，在镀膜完成之后，需要真空摆阀进行破真空，使外部气体进入到真空镀膜腔中。真空摆阀的阀板通过单轴转动连接在阀体上，在工作时，阀板的真空侧一直对阀板施加压力，从而使阀板一直挤压阀板的垫片，由于垫片的受力点始终保持不变，在长期使用之后，会导致垫片变形，真空摆阀的密闭效果降低，从而导致真空摆阀失效，影响真空镀膜的效果。

3、上述问题是目前亟待解决的。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种用于真空镀膜腔的真空摆阀及其工作方法。

2、为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于真空镀膜腔的真空摆阀，包括：

3、阀体、阀板、驱动机构以及转动式支撑组本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

3.如权利要求2所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

4.如权利要求3所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

5.如权利要求4所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

6.如权利要求5所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

7.如权利要求5所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

8.一种如权利要求1-7任一项所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀的工作方法，其特征在于，...

【技术特征摘要】

1.一种用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

3.如权利要求2所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

4.如权利要求3所述的用于真空镀膜腔的真空摆阀，其特征在于，

5.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：上官小兴，印志超，孙志刚，
申请(专利权)人：常州卓旻精密机械科技有限公司，
类型：发明
国别省市：