【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及隔热测试,尤其涉及一种半导体晶圆隔热测试设备。
技术介绍
1、半导体晶圆是指在半导体材料(如硅、锗、砷化镓等)上经过单晶生长、切割、抛光等一系列精密加工后形成的圆形片状材料,为了评估晶圆在持续高温或温度循环变化条件下的性能稳定性,包括电气参数(如阈值电压、电流泄漏等)是否保持在允许的范围内,以及是否有热诱导的物理变化,需要对半导体晶圆进行隔热测试。
2、在对电脑、电视等家用电器内部的半导体晶圆进行隔热测试时,由于工作在室温约20℃至40℃,极端情况下(如设备过载、散热不良或高温环境)会短时达到60℃甚至更高。所以当模拟和评估晶圆及其封装在实际工作和使用环境中可能遇到的热管理状况时,需要在密闭环境对半导体晶圆进行隔热测试,然而在密闭空间进行隔热测试时,热量从发热管或者散热片发出,会导致前期局部空间热量较大,后期热量不均匀的情况,导致热量部分堆积,温度梯度过大,为了提高测试结果的准确性,需要确保半导体晶圆表面以及周围环境具有高度均匀的温度。
3、基于上述情况,本专利技术提出一种均匀受热的半导体晶圆隔热测
...【技术保护点】
1.一种半导体晶圆隔热测试设备,包括有测试箱(1),所述测试箱(1)放置有盖架(2),所述测试箱(1)固接有若干个温度显示屏(3),所述测试箱(1)内固接有沿所述测试箱(1)横向对称分布的加热片(4),通过控制模块启动所述加热片(4)进行自加热,所述测试箱(1)内固接有沿所述测试箱(1)横向对称分布的第一热电偶(5),所述测试箱(1)远离所述盖架(2)的一侧固接有第二热电偶(6),其特征是:所述测试箱(1)靠近所述第二热电偶(6)的一侧开有用于放置半导体晶圆(11)的放置槽(12),盖上所述盖架(2)后,所述盖架(2)将所述测试箱(1)分隔为上下两个空间,所述加热片(
...【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆隔热测试设备,包括有测试箱(1),所述测试箱(1)放置有盖架(2),所述测试箱(1)固接有若干个温度显示屏(3),所述测试箱(1)内固接有沿所述测试箱(1)横向对称分布的加热片(4),通过控制模块启动所述加热片(4)进行自加热,所述测试箱(1)内固接有沿所述测试箱(1)横向对称分布的第一热电偶(5),所述测试箱(1)远离所述盖架(2)的一侧固接有第二热电偶(6),其特征是:所述测试箱(1)靠近所述第二热电偶(6)的一侧开有用于放置半导体晶圆(11)的放置槽(12),盖上所述盖架(2)后,所述盖架(2)将所述测试箱(1)分隔为上下两个空间,所述加热片(4)在上部的空间内,所述半导体晶圆(11)在上部的空间内,所述测试箱(1)内靠近所述第一热电偶(5)的一侧通过转轴(14)转动连接有沿所述测试箱(1)横向对称分布的风扇(7),对称分布的所述风扇(7)导风方向相反,通过控制模块启动所述风扇(7)进行循环热气流,所述测试箱(1)内固接有沿所述第二热电偶(6)中心对称分布的直角架(8),所述直角架(8)转动连接有第三热电偶(9),所述盖架(2)靠近所述第三热电偶(9)的一侧固接有楔形块,所述盖架(2)的楔形块与所述第三热电偶(9)挤压配合,每个所述第一热电偶(5)、所述第二热电偶(6)和所述第三热电偶(9)均通过控制模块分别与对应的温度显示屏(3)电性连接,所述直角架(8)和所述第三热电偶(9)均固接有沿所述直角架(8)横向对称分布的第一磁块(10),所述直角架(8)上的所述第一磁块(10)与所述第三热电偶(9)上相邻的所述第一磁块(10)相互磁吸配合。
2.按照权利要求1所述的一种半导体晶圆隔热测试设备,其特征是:还包括有至少两个第一弹性片(13),所述第一弹性片(13)固接于所述盖架(2),所述测试箱(1)靠近所述第一弹性片(13)的一侧开有用于对所述第一弹性片(13)进行限位的卡槽。
3.按照权利要求2所述的一种半导体晶圆隔热测试设备,其特征是:还包括有缺齿条(16),所述缺齿条(16)水平滑动连接于所述测试箱(1),所述转轴(14)通过超越离合器连接有齿轮(15),使得齿轮(15)只能单向带动转轴(14)转动,齿轮(15)与缺齿条(16)啮合,缺齿条(16)与测试箱(1)之间固接有第一弹簧(17),缺齿条(16)的一端固接有第二磁块(19),测试箱(1)靠近第二磁块(19)的一侧固接有电磁铁(18),所述第一热电偶(5)通过控制模块与电磁铁(18)电性连接,电磁铁(18)通电时,电磁铁(18)与第二磁块(19)磁吸配合。
4.按照权利要求3所述的一种半导体晶圆隔热测试设备,其特征是:还包括有用于固定所述半导体晶圆(11)的滑架(20),所述滑架(20)竖直滑动连接于所述盖架(2),所述滑架(20)与所述盖架(2)之间固接...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨善,
申请(专利权)人:深圳洁盟技术股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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