【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆抓取,尤其涉及一种半导体晶圆制造用抓取装置。
技术介绍
1、半导体晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,也就是常说的硅晶棒,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
2、在半导体晶圆制造过程中,实现晶圆的抓取是一项关键技术,将晶圆转移到不同加工车间或者不同的加工工序时,都需要通过晶圆抓取装置,对晶圆进行抓取,再通过车间顶部的轨道或者其他输送设备,输送到下一步工序继续进行加工。
3、但是,现有的生产设备中,常见的晶圆抓取装置,主要是采用真空吸盘吸附式进行晶圆抓取,此种方式抓取,在抓取转移中,在受到外在因素发生震动或者颠簸,晶圆意外脱落时,无法及时自动报警,以至于工人无法及时采取有效措施。
4、鉴于此,提出一种半导体晶圆制造用抓取装置。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中,晶圆意外脱落时,无法及时自动报警的技术问题,而提出的一
...【技术保护点】
1.一种半导体晶圆制造用抓取装置,包括第一箱体(1)和吸盘(301),其特征在于,
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,所述吸盘(301)底部中心设置凹槽(5),所述凹槽(5)内安装有CCD相机(501)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,所述激光对射传感器分为激光对射传感器发射端(8)和激光对射传感器接收端(801);
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,
...【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆制造用抓取装置,包括第一箱体(1)和吸盘(301),其特征在于,
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,所述吸盘(301)底部中心设置凹槽(5),所述凹槽(5)内安装有ccd相机(501)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,所述激光对射传感器分为激光对射传感器发射端(8)和激光对射传感器接收端(801);
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的一种半导体晶圆制造用抓取装置,其特征在于,
6.根据权利要求4所述的一种半导体晶...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨善,
申请(专利权)人:深圳洁盟技术股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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