离子发生装置、质谱仪以及产生离子的方法制造方法及图纸

技术编号:41854930 阅读:19 留言:0更新日期:2024-06-27 18:30
本发明专利技术技术方案提供了一种利用激光对样品粒子进行二次解离的离子发生装置,能够以较低的成本进一步提升离子发生装置的解离效率。该离子发生装置包括:解吸装置,将样品粒子解吸至规定区域内;光源,发射光束并将光束聚焦在规定区域,从而对规定区域内的样品粒子进行电离、碎裂或者原子化;和反射聚焦装置,将光源发出的经过规定区域内的光束反射并聚焦在规定区域,从而重复至少一次对规定区域内的所述样品粒子的电离、碎裂或者原子化,光束每次在所述反射聚焦装置表面的反射都对应产生一次向规定区域的聚焦。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及质量分析,更加具体地涉及一种离子发生装置、质谱仪及产生离子的方法。


技术介绍

1、现有的一些物质分析仪器,对物质进行分析时,需要先将物质的样品粒子进行电离、碎裂或者原子化,然后再对样品分子解离出的样品粒子进行检测来揭示物质的元素组成或分子信息,相应地,离子发生装置是此类物质分析仪器的重要组成部分。

2、经人们研究发现,一次解离后样品往往会产生包括大量的未解离完全的粒子,这在很大程度上限制了离子发生装置的解离效率,因而限制了分析仪器的灵敏度,所以现有技术中的离子发生装置往往会对样品粒子进行多次解离。以基质辅助激光解吸电离(maldi,matrix assisted laser desorption/ionization)为例,2015年soltwisch等人发表的《mass spectrometry imaging with laser-induced postionization》文献中,公开了一种maldi-tof(飞行时间,time of flight)质谱仪,使用在260~280nm范围内波长可调的激光源对一次电离得到的粒子本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种离子发生装置,其特征在于,所述离子发生装置包括:

2.如权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述反射聚焦装置包括第一凹面镜,所述第一凹面镜与所述光源隔着所述规定区域相对设置,所述第一凹面镜的球心位于所述规定区域内。

3.如权利要求2所述的离子发生装置,其特征在于,所述反射聚焦装置还包括第二凹面镜,所述第一凹面镜与所述第二凹面镜隔着所述规定区域相对设置,所述第二凹面镜的球心位于所述规定区域内。

4.如权利要求3所述的离子发生装置,其特征在于,所述光束在所述第一凹面镜和所述第二凹面镜之间重复多次地反射和聚焦在所述规定区域。

5.如...

【技术特征摘要】

1.一种离子发生装置,其特征在于,所述离子发生装置包括:

2.如权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述反射聚焦装置包括第一凹面镜,所述第一凹面镜与所述光源隔着所述规定区域相对设置,所述第一凹面镜的球心位于所述规定区域内。

3.如权利要求2所述的离子发生装置,其特征在于,所述反射聚焦装置还包括第二凹面镜,所述第一凹面镜与所述第二凹面镜隔着所述规定区域相对设置,所述第二凹面镜的球心位于所述规定区域内。

4.如权利要求3所述的离子发生装置,其特征在于,所述光束在所述第一凹面镜和所述第二凹面镜之间重复多次地反射和聚焦在所述规定区域。

5.如权利要求4所述的离子发生装置,其特征在于,所述光束贴着所述第二凹面镜的边缘入射至所述第一凹面镜的表面。

6.如权利要求4所述的离子发生装置,其特征在于,所述第二凹面镜具有通孔,所述光束穿过所述通孔入射至所述第一凹面镜的表面。

7.如权利要求2-6中任一项所述的离子发生装置,其特征在于,所述光源包括凸透镜,所述凸透镜的焦点位于所述规定区域内。

8.如权利要求7所述的离子发生装置,所述凸透镜与所述第一凹面镜的光轴同轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙文剑耿智
申请(专利权)人:株式会社岛津制作所
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1