半导体结构及其工作方法、功率放大电路、电子设备技术

技术编号:41804570 阅读:19 留言:0更新日期:2024-06-24 20:25
本申请实施例提供一种半导体结构及其工作方法、功率放大电路、电子设备,涉及半导体技术领域,用于提高高功率半导体器件的总输出功率。半导体结构包括多个半导体组,每个半导体组包括多个源极、多个漏极和多个栅极、漏极焊盘、栅极焊盘以及设置在每个源极下方的至少一个背孔。其中,漏极焊盘和栅极焊盘上均设置有多个键合点。多个源极、多个漏极和多个栅极均位于漏极焊盘和栅极焊盘之间,多个漏极与漏极焊盘耦接,多个栅极与栅极焊盘耦接。在第一方向上,源极、漏极和栅极交替排布,栅极位于源极和漏极之间。漏极焊盘和栅极焊盘均沿第二方向延伸,第一方向为从漏极焊盘到栅极焊盘的方向,第一方向与第二方向相交。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

PCT国内申请,权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

pct国内申请,权...

【专利技术属性】
技术研发人员:马平李海军仲正乐伶聪
申请(专利权)人:华为技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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