【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光刻机,具体为一种便于维护的光刻机。
技术介绍
1、光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,常用的光刻机是掩膜对准光刻,一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序光刻的意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,因此光刻机的价格昂贵,且内部电子元件非常精密和脆弱,需要经常进行维护。
2、中国技术公开说明书cn212207963u一种便于维护的光刻机,设计了一种便于拆卸的柜门的光刻机,方便对内部的精细组件进行定时的维护和检修其原理就是将柜门关上之后,利用扳手转动转动块,使得转动块带动螺纹杆一起转动,同时使得螺纹套在螺纹杆上移动同时带动上下两个挤压块,使得挤压块对受压块进行挤压,使得受压块推动卡块插入卡槽内部将柜门固定在光刻机上面,拆卸时反向转动即可。
3、但是现有装置再进行拆
...【技术保护点】
1.一种便于维护的光刻机,包括:
2.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述移动板(28)的外侧壁与所述固定块(13)的内侧壁贴合。
3.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定组件(2)还包括:
4.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定组件(2)还包括:
5.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定块(13)的外侧壁对称开设有滑槽(31),所述移动板(28)的顶部均设置有滑块(32),并在所述固定块(13)的内部滑动。
【技术特征摘要】
1.一种便于维护的光刻机,包括:
2.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述移动板(28)的外侧壁与所述固定块(13)的内侧壁贴合。
3.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定组件(2)还包括:
4.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定组件(2)还包括:
5.根据权利要求1所述的一种便于维护的光刻机,其特征在于:所述固定块(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:王峰,赵海琴,
申请(专利权)人:美可隆半导体苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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