一种用于单晶炉的水冷屏及单晶炉制造技术

技术编号:41790758 阅读:47 留言:0更新日期:2024-06-24 20:17
本技术提供一种用于单晶炉的水冷屏及单晶炉,其中,用于单晶炉的水冷屏包括:水冷屏主体,所述水冷屏主体设于单晶炉的内部且所述水冷屏主体的侧壁内部形成有容纳腔且顶部连接有进水管和出水管,所述进水管和出水管分别与所述容纳腔相连通;清洁杆,所述清洁杆设于所述水冷屏主体的内侧并且与所述水冷屏主体的内表面相贴合;驱动装置,所述驱动装置连接所述清洁杆以驱动所述清洁杆沿所述水冷屏主体进行周向运动以清扫所述水冷屏主体的内表面。根据本技术提供的水冷屏,在用于单晶炉时,通过控制滑动清洁杆及时去除水冷屏内表面的硅点能够有效避免单晶生长时硅点掉落到液面造成单晶生长断线的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及直拉单晶炉,具体涉及一种用于单晶炉的水冷屏及单晶炉


技术介绍

1、直拉单晶炉是多晶硅转化为单晶硅过程中的重要设备,而单晶硅又是光伏发电和半导体行业中的基础材料。目前在直拉单晶硅棒生产中为提高产量,通常在单晶炉中增设水冷屏,水冷屏外挂导流筒,以加速硅单晶散热,提高单晶生长速度,水冷屏越接近硅液面,结晶界面的晶体散热越快,单晶硅生长速度也就越快。同时,为提升产能控制生产成本,通常采用复投料技术实现一炉多棒效果。

2、然而,在复投工序过程中,原料中的硅粉容易发生漂浮,硅粉容易贴敷在离液面较近的水冷屏内表面,硅粉高温时会变成颗粒硅点,并且,熔料过程中熔硅也容易溅在水冷屏内表面。由于水冷屏的内表面较为光滑,当进入单晶生长工序时,硅点受热或炉内氩气吹拂容易掉落到单晶硅晶体生长液面上,导致单晶断线生长失败。另外,随着单晶生长周期的不断延长,单晶炉中的水冷屏内表面的硅点会不断累积增加,导致水冷屏对单晶生长过程中的冷却效果不断降低,对单晶生产过程的稳定性造成影响。

3、目前常规操作是加大氩气流量,对水冷屏内表面硅点进行吹扫,或是通过处理水本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述驱动装置包括:

3.根据权利要求2所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述清洁杆包括多个,多个所述清洁杆沿所述齿圈的周向均匀地间隔开分布。

4.根据权利要求3所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述水冷屏主体的顶部设有齿圈护罩,所述齿圈护罩的横截面形成为环形卡槽,所述齿圈卡设在所述环形卡槽内。

5.根据权利要求4所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述齿圈为外齿齿圈,所述齿轮啮合在所述齿圈的外侧,所述齿轮外设有齿轮护罩,其中,所...

【技术特征摘要】

1.一种用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述驱动装置包括:

3.根据权利要求2所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述清洁杆包括多个,多个所述清洁杆沿所述齿圈的周向均匀地间隔开分布。

4.根据权利要求3所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述水冷屏主体的顶部设有齿圈护罩,所述齿圈护罩的横截面形成为环形卡槽,所述齿圈卡设在所述环形卡槽内。

5.根据权利要求4所述的用于单晶炉的水冷屏,其特征在于,所述齿圈为外齿齿圈,所述齿轮啮合在所述齿圈的外侧,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:王甫朝宋克冉杨超
申请(专利权)人:曲靖晶澳光伏科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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