【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于陶瓷材料及其。
技术介绍
1、在工业生产中，需要使用等离子体作为清洗或者处理之需要。远程等离子体(rps)清洗是利用氟化氮(nf3)气体在等离子体作用下离化为f、f*等活性离子或电浆，具有高能量的这些基团和二氧化硅、氮化硅等反应，形成挥发相氟化硅，从而清除工艺过程中在腔室除衬底表面其余部位的二氧化硅、氮化硅薄膜残余积累，达到腔室清洗的效果。
2、远程等离子体发生器需要一个两端开口的环形腔室，将nf3气体等离子体化，并通过通孔将等离子体输出。以往采用阳极氧化的金属铝或者石英玻璃材料材料制造环形腔室，但是，上述两种材料的耐等离子体侵蚀性还有待改善。
3、氧化铝或者氧化钇陶瓷比金属和石英玻璃具有更加优异的耐等离子体寝室性能，可以作为远程等离子体环形腔室的材料。
4、但是，与金属和石英玻璃相比，陶瓷材料难以加工成型。尤其是对于环形腔室这一类复杂的中空薄壁部件，难以对内部进行机械加工，阻碍了陶瓷材料在远程等离子体环形腔室中的应用。因此，开发一种陶瓷环形腔室对于提升远程等离子体发生装置的性能和寿命具
【技术保护点】
1.一种中空等离子体环形腔室的制造方法，其特征在于包含如下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述环形腔室的材质为氧化铝或者氧化钇陶瓷材料。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述陶瓷环形腔室(9)加工后保留连接面飞边(30)。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：在预烧好的环形腔室素坯(8)表面吸附一层相同材质的浆料，干燥后再进行高温烧结和加工。
【技术特征摘要】
1.一种中空等离子体环形腔室的制造方法，其特征在于包含如下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于所述环形腔室的材质为氧化铝或者氧化钇陶瓷材料。
3.如权利要求1所述的方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：沪硅精密陶瓷科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。