【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体生产加工,具体涉及一种半导体清洗装置。
技术介绍
1、目前半导体清洗所采取的方式一般采用超声波加清洗剂的方式,所清洗的产品需要通过载具承载再放到清洗槽内,由于料框或者料盒的结构所致,导致了半导体元件与清洗剂不能充分接触,清洗效率低。
技术实现思路
1、本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种半导体清洗装置。
2、为实现上述目的,本技术采用的技术方案是:一种半导体清洗装置,包括底座,所述底座上设置清洗筒,其创新点在于:所述底座上还设置一对升降杆,所述升降杆关于清洗筒对称设置,所述升降杆的活塞杆顶部设置同一个盖板,所述盖板的顶部设置电机,所述电机的输出轴贯穿盖板,且设置集电环,所述集电环的下方设置超声波清洗棒,所述超声波清洗棒的外部设置格栅套,所述格栅套的外部环形阵列设置多个l型方轴,所述方轴上插接物料板组件,所述物料板组件用于放置半导体。
3、进一步的,所述物料板组件包括物料板,所述物料板的一端设置套筒,所述套筒与方轴配合,所述物料板上开设多
...【技术保护点】
1.一种半导体清洗装置,包括底座,所述底座上设置清洗筒,其特征在于:所述底座上还设置一对升降杆,所述升降杆关于清洗筒对称设置,所述升降杆的活塞杆顶部设置同一个盖板,所述盖板的顶部设置电机,所述电机的输出轴贯穿盖板,且设置集电环,所述集电环的下方设置超声波清洗棒,所述超声波清洗棒的外部设置格栅套,所述格栅套的外部环形阵列设置多个L型方轴,所述方轴上插接物料板组件,所述物料板组件用于放置半导体。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗装置,其特征在于:所述物料板组件包括物料板,所述物料板的一端设置套筒,所述套筒与方轴配合,所述物料板上开设多个物料槽孔,且每个物
...【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗装置,包括底座,所述底座上设置清洗筒,其特征在于:所述底座上还设置一对升降杆,所述升降杆关于清洗筒对称设置,所述升降杆的活塞杆顶部设置同一个盖板,所述盖板的顶部设置电机,所述电机的输出轴贯穿盖板,且设置集电环,所述集电环的下方设置超声波清洗棒,所述超声波清洗棒的外部设置格栅套,所述格栅套的外部环形阵列设置多个l型方轴,所述方轴上插接物料板组件,所述物料板组件用于放置半导体。
2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗装置,其特征在于:所...
【专利技术属性】
技术研发人员:尤红权,邓光伟,朱志松,陈磊,
申请(专利权)人:南通国尚精密机械有限公司,
类型:新型
国别省市:
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