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本技术公开了一种半导体清洗装置，包括底座，底座上设置清洗筒，底座上还设置一对升降杆，升降杆关于清洗筒对称设置，升降杆的活塞杆顶部设置同一个盖板，盖板的顶部设置电机，电机的输出轴贯穿盖板，且设置集电环，集电环的下方设置超声波清洗棒，超声波清洗...
该专利属于南通国尚精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南通国尚精密机械有限公司授权不得商用。

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