一种智能环抛机及其控制方法技术

技术编号:41737019 阅读:29 留言:0更新日期:2024-06-19 12:56
本发明专利技术涉及光学元件加工技术领域,提供一种智能环抛机及其控制方法,智能环抛机包括:设备主体,包括抛光基盘和用于驱动抛光基盘转动的驱动机构,抛光基盘设有第一管路,抛光基盘的中心轴设有旋转密封阀,第一管路的进液端和出液端均连通至旋转密封阀,抛光基盘上设有覆盖第一管路的抛光胶板;胶板恒温设备,内部设有防冻液并用于调节防冻液的温度,胶板恒温设备与旋转密封阀连通,胶板恒温设备用于驱动防冻液在胶板恒温设备和第一管路之间循环流动。本申请通过胶板恒温设备可以均匀且快速地调节抛光胶板的温度,在调节准确度和调节效率上都有显著的提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学元件加工,更具体地说,是涉及一种智能环抛机及其控制方法


技术介绍

1、环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,环抛机床通常采用大尺寸、高热稳定性的天然花岗岩制成抛光基盘,抛光基盘表面浇制环形的沥青胶层作为抛光胶盘,抛光胶盘的上方依次放有校正盘和工件盘,校正盘用于修正和控制抛光胶盘的面型误差,而工件盘则用于把持光学元件,加工光学元件时抛光胶盘、校正盘、工件盘均以一定的转速匀速旋转,放在工件盘内的光学元件在抛光胶盘及其承载的抛光颗粒作用下产生材料去除从而形成光学表面。

2、由上述可知,工件表面的去除主要依靠光学元件与抛光胶板和抛光颗粒的摩擦作用,其中,不同材料的光学元件所需要的摩擦强度不同,因此需要适配不同硬度的抛光胶板,也就是说,抛光胶板的硬度会进一步影响光学元件的面型精度和表面粗糙度。

3、目前的环抛机设备在生产过程中,抛光胶板与光学元件的加工匹配单一,导致抛光胶板的调校周期长,对人员要求高,存在控制精度低的技术问题。

4、因此,现有技术还有待改进和发展。


技术实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种智能环抛机,用于抛光光学元件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的智能环抛机,其特征在于,所述第一管路围绕所述抛光基盘的中心轴螺旋分布在所述抛光基盘和所述抛光胶板之间。

3.根据权利要求1所述的智能环抛机,其特征在于,所述抛光基盘上设有温度探头,所述温度探头与所述胶板恒温设备电连接并用于检测所述抛光胶板的温度。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的智能环抛机,其特征在于,还包括,

5.根据权利要求4所述的智能环抛机,其特征在于,还包括环境恒温设备,所述环境恒温设备包括温度控制器和表冷器,所述温度控制器用于调节所述表冷器的温度...

【技术特征摘要】

1.一种智能环抛机,用于抛光光学元件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的智能环抛机,其特征在于,所述第一管路围绕所述抛光基盘的中心轴螺旋分布在所述抛光基盘和所述抛光胶板之间。

3.根据权利要求1所述的智能环抛机,其特征在于,所述抛光基盘上设有温度探头,所述温度探头与所述胶板恒温设备电连接并用于检测所述抛光胶板的温度。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的智能环抛机,其特征在于,还包括,

5.根据权利要求4所述的智能环抛机,其特征在于,还包括环境恒温设备,所述环境恒温设备包括温度控制器和表冷器,所述温度控制器用于调节所述表冷器的温度,所述表冷器正对所述风机的出风端。

6.根据权利要求5所述的智能环抛机,其特征在于,还包括环境恒湿设备,所述环境恒湿设备包括湿度控制器和加湿水帘,所述湿度控制器用于调节所述加湿水帘的湿度,所述加湿水帘正对所述风机的出风端。

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【专利技术属性】
技术研发人员:冯志新
申请(专利权)人:北京创思工贸有限公司
类型:发明
国别省市:

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