【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶体生长，具体涉及一种对中装置和装配方法。
技术介绍
1、单晶硅的生产过程中，需将单晶炉的热场部件例如上、中、下保温筒等进行对中设置，以使炉内的气流和热量保持平衡，以此使得单晶硅正常生长，如未精准对中会导致打火，炉内保温性差，成晶困难等问题，造成经济损失，由此可见，单晶炉的热场部件是否对中对单晶硅的生产至关重要。然在现有技术中，在炉体部件的对中装配时，仍然需要人工测量对中，例如下保温筒、中保温筒与主加热器脚板两端的距离进行测量时，需两人配合同时测量，进行对移动对中，直至下保温桶的内壁和中保温桶的内壁均与主加热器四周距离保持一致，从而可见，炉体部件对中过程需要人员反复测量、并对需对中部件移动，对中过程复杂且耗时较多。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请提供了一种对中装置，简化了对中过程，节省对中时间。另外，本申请还提供了包括上述对中装置的装配方法。
2、为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案：
3、一种对中装置，适用于炉体的待装配件和已装配件的对中，包括：
4、发本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种对中装置，其特征在于，适用于炉体的待装配件和已装配件的对中，包括：
2.根据权利要求1所述的对中装置，其特征在于，所述发射器用于发射多种尺寸的所述光圈，且多种尺寸的所述光圈具有标识，其中，
3.根据权利要求1所述的对中装置，其特征在于，所述支架连接在所述已装配件上。
4.根据权利要求3所述的对中装置，其特征在于，所述支架包括第一支撑件和与所述第一支撑件活动连接的第二支撑件，所述第一支撑件的一端与所述已装配件相连，所述第一支撑件的另一端与所述第二支撑件连接；
5.根据权利要求3或4所述的对中装置，其特征在于，所述支...
【技术特征摘要】
1.一种对中装置，其特征在于，适用于炉体的待装配件和已装配件的对中，包括：
2.根据权利要求1所述的对中装置，其特征在于，所述发射器用于发射多种尺寸的所述光圈，且多种尺寸的所述光圈具有标识，其中，
3.根据权利要求1所述的对中装置，其特征在于，所述支架连接在所述已装配件上。
4.根据权利要求3所述的对中装置，其特征在于，所述支架包括第一支撑件和与所述第一支撑件活动连接的第二支撑件，所述第一支撑件的一端与所述已装配件相连，所述第一支撑件的另一端与所述第二支撑件连接；
5.根据权利要求3或4所述的对中装置，其特征在于，所述支架包括第一支撑件和与所述第一支撑件相连的第二支撑件，所述第一支撑件的一端与所述已装配件相连，所述第一支撑件的另一端与所述第二支撑件连接；
6.根据权利要求4所述的对中装置，其特征在于，所述第二支撑件上设置有刻度，以读取所述发射器移动的距离。
7.根据权利要求6所述的对中装置，其特征在于，所述第一支撑件连接所述已装配件的一端设置有...
【专利技术属性】
技术研发人员：于荣臻，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：三一硅能朔州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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