晶片自动研磨系统技术方案

本申请公开了一种晶片自动研磨系统，涉及光学晶片制作技术领域，装置包括机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；机架上的两侧分别设置有横向直线导轨，自动上下料机构包括花篮上下料机构、晶片上下料机构、游星轮缓存机构和研磨机上下料机构；花篮上下料机构包括分别设置于机架一端上的花篮上料机构和花篮下料机构，晶片上下料机构包括四轴机械手和晶片夹爪；游星轮缓存机构包括游星轮上料缓存器和游星轮下料缓存器；研磨机上下料机构包括六轴机械手、吸盘件和视觉定位装置；两台双面研磨机设于机架的两侧。本申请能够有效解决产品无法溯源、生产效率较低、且工作人员劳动强度大的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光学晶片制作，特别涉及一种晶片自动研磨系统。

技术介绍

1、双面研磨机广泛应用于蓝宝石、硅晶体、陶瓷片、金属材料等两面平行的晶体或其它机械零件，特别是薄脆性材料的加工。在蓝宝石衬底加工过程中，晶片的双面研磨工序至关重要，但是目前加工所使用研磨设备由于游星轮的公转和自转使得游星轮在研磨盘上的位置不能精确定位同时受研磨液的影响，研磨设备上下料只能通过人工完成，而人工上下料存在产品无法溯源、生产效率较低、且工作人员劳动强度大的问题。

技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种晶片自动研磨系统，能够有效解决产品无法溯源、生产效率较低、且工作人员劳动强度大的技术问题。

2、本申请提供了一种晶片自动研磨系统，包括机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；

3、所述机架上的两侧分别设置有横向直线导轨，所述自动上下料机构包括花篮上下料机构、晶片上下料机构、游星轮缓存机构和研磨机上下料机构；

4、所述花篮上下料机构包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶片自动研磨系统，其特征在于，包括：机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；

2.根据权利要求1所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，所述游星轮上料缓存器包括第一支撑台、第一分度转台和多个第一游星轮缓存转盘，所述第一分度转台设于所述第一支撑台上，多个所述第一游星轮缓存转盘均匀分布于所述第一分度转台上，所述第一游星轮缓存转盘用于放置游星轮。

3.根据权利要求2所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，所述游星轮下料缓存器包括第二支撑台、第二分度转台和多个第二游星轮缓存转盘，所述第二分度转台设于所述第二支撑台上，多个所述第二游星轮缓存转盘均匀分布...

【技术特征摘要】

1.一种晶片自动研磨系统，其特征在于，包括：机架、自动上下料机构、清洗机构、第一控制机构和两台双面研磨机；

2.根据权利要求1所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，所述游星轮上料缓存器包括第一支撑台、第一分度转台和多个第一游星轮缓存转盘，所述第一分度转台设于所述第一支撑台上，多个所述第一游星轮缓存转盘均匀分布于所述第一分度转台上，所述第一游星轮缓存转盘用于放置游星轮。

3.根据权利要求2所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，所述游星轮下料缓存器包括第二支撑台、第二分度转台和多个第二游星轮缓存转盘，所述第二分度转台设于所述第二支撑台上，多个所述第二游星轮缓存转盘均匀分布于所述第二分度转台上，所述第二游星轮缓存转盘用于放置游星轮。

4.根据权利要求1所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，每一所述第一游星轮缓存转盘和所述第二游星轮缓存转盘中均对应设置有至少两个游星轮定位销，所述游星轮定位销用于对对应的游星轮进行限位。

5.根据权利要求1所述的晶片自动研磨系统，其特征在于，所述花篮上料机构包括支架、支撑板、气缸横向安装板、至少两个气缸竖向安装板、多个花篮、多个压紧气缸和多个压板，所述支架设于所述机架上，所述支撑板设于所述支架上，两个所述气缸竖向安装板分别设于所述支撑板的两侧，所述气缸横向安装板设于两个所述气缸竖向安装板上，多个所述花篮并排间隔设于所述支撑板上，所述花篮、所述压紧气缸和所述压板一一对应，多个所述压紧气缸并排间隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：康森，樊林，滕斌，石天虎，徐伟同，吴立东，周凌飞，张东升，徐国宏，
申请(专利权)人：天通银厦新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：