【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，具体涉及一种镀膜装置、镀膜方法和镀膜产品。
技术介绍
1、现有镀膜方法中，蒸发面正对沉积基材薄膜，薄膜通过圆形冷却主辊，或者由辊系拉为平面悬浮快速通过蒸发源的上方，使得蒸镀蒸汽在膜面上沉积，形成金属膜层。但是，无论是贴合主辊沉积镀膜还是平面悬浮镀膜，蒸发面与膜面均成垂直状态。
2、由于蒸汽分子运动速度相对膜面线速度很大，蒸汽分子撞击膜面沉积后，在薄膜表面几乎呈90度竖直生长，因此，在快速沉积纵向生长过程中，膜层内部横展面受力较弱，导致结晶状态较差，键合力较弱，甚至镀膜层微观结构上局部存在横向结合力不佳的缺陷，在部分位置形成微间隙，降低膜层导电性，以及降低镀膜成品的拉升回弹性能。存在拉力作用下，由于膜面晶簇竖直单向生长造成的膜层横展方向结构缺陷，横向结合力不佳或存在微隙位置出现断裂或间隙扩大造成膜层横向不可逆微损伤。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术实施例的目的在于提供一种镀膜装置、镀膜方法和镀膜产品，以解决现有技术中膜面晶簇竖直单向生长造成的膜层横...
【技术保护点】
1.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置适用于贴辊式的镀膜方式，所述镀膜装置包括：镀膜主辊、卷绕副辊和第一蒸发源，所述第一蒸发源位于所述镀膜主辊的下方，薄膜在所述卷绕副辊的导向下切向贴合所述镀膜主辊的圆面走带，其中，所述第一蒸发源的中心与所述镀膜主辊的中心之间的连线与所述镀膜主辊在竖直方向的中心线之间具有一定的锐角夹角。
2.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于，所述锐角夹角大于0度且小于30度。
3.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于，所述第一蒸发源与所述镀膜主辊之间的竖直距离为15cm至25cm。
4.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜装置适用于贴辊式的镀膜方式，所述镀膜装置包括：镀膜主辊、卷绕副辊和第一蒸发源，所述第一蒸发源位于所述镀膜主辊的下方，薄膜在所述卷绕副辊的导向下切向贴合所述镀膜主辊的圆面走带，其中，所述第一蒸发源的中心与所述镀膜主辊的中心之间的连线与所述镀膜主辊在竖直方向的中心线之间具有一定的锐角夹角。
2.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于，所述锐角夹角大于0度且小于30度。
3.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于，所述第一蒸发源与所述镀膜主辊之间的竖直距离为15cm至25cm。
4.根据权利要求1所述的一种电镀装置，其特征在于，所述镀膜装置还包括：第一真空腔室、第一放卷辊和第一收卷辊，所述第一放卷辊、所述第一收卷辊、所述卷绕副辊和所述镀膜主辊转动地安装在所述第一真空腔室的侧壁上；
5.一种镀膜装置，其特征在于，所述镀膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：深圳金美新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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