化学清洗槽的酸性药水补充机构制造技术

本技术涉及清洗设备技术领域，具体为一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，储液槽的顶部连接有输送管，储液槽的一侧安装有高度调节组件，高度调节组件的一侧安装有升降板，升降板的底部安装有喷液组件，喷液组件位于清洗槽的上部，喷液组件包括T形架，T形架的下部内侧安装有喷洒板，T形架的上部内侧竖向安装有竖管，竖管的底端与喷洒板连接。该化学清洗槽的酸性药水补充机构中，喷液组件能够将药水均匀喷出至清洗槽的上部，保证药水均匀分布在清洗槽内，且通过高度调节组件能够调节喷液组件的高度，能够保证其随着液面的升高而升高，使得喷出药水的高度于液位始终保持一致，从而避免药水产生溅射造成安全问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及清洗设备，具体地说，涉及一种化学清洗槽的酸性药水补充机构。

技术介绍

1、在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命，清洗的方式有化学清洗、物理清洗等。

2、在进行化学清洗时，一般需要向化学清洗槽内进行酸性药水的补充，现有的补充方式为人工补充，人工通过水管向化学清洗槽内倒入药水，靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，以解决上述
技术介绍
中提出的靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供了一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，所述储液槽的顶部连接有输送管，所述储液槽的一侧安装有高度调节组件，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽(2)，其特征在于：所述储液槽(2)的顶部连接有输送管(6)，所述储液槽(2)的一侧安装有高度调节组件(3)，所述高度调节组件(3)的一侧安装有升降板(4)，所述升降板(4)的底部安装有喷液组件(5)，所述喷液组件(5)位于清洗槽(1)的上部，所述喷液组件(5)包括T形架(51)，所述T形架(51)的下部内侧安装有喷洒板(52)，所述T形架(51)的上部内侧竖向安装有竖管(53)，所述竖管(53)的底端与喷洒板(52)连接，所述竖管(53)的顶端贯穿升降板(4)且与输送管(6)的一端连接。

2.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药...

【技术特征摘要】

1.化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽(2)，其特征在于：所述储液槽(2)的顶部连接有输送管(6)，所述储液槽(2)的一侧安装有高度调节组件(3)，所述高度调节组件(3)的一侧安装有升降板(4)，所述升降板(4)的底部安装有喷液组件(5)，所述喷液组件(5)位于清洗槽(1)的上部，所述喷液组件(5)包括t形架(51)，所述t形架(51)的下部内侧安装有喷洒板(52)，所述t形架(51)的上部内侧竖向安装有竖管(53)，所述竖管(53)的底端与喷洒板(52)连接，所述竖管(53)的顶端贯穿升降板(4)且与输送管(6)的一端连接。

2.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述升降板(4)的顶部安装有支架(41)，所述支架(41)的顶部开设有圆孔，所述输送管(6)穿过圆孔。

3.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述喷洒板(52)的底部表面均匀开设有若干喷口(521)。

4.根据权利要求1所述的化学清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈冠麟，
申请(专利权)人：东莞市世平光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：