镀膜设备及镀膜系统技术方案

本申请公开了一种镀膜设备及镀膜系统，镀膜设备包括至少两个镀膜腔，镀膜腔内设有镀膜源，镀膜源沿第一方向的两侧设有第一镀膜位和第二镀膜位，镀膜源用于对第一镀膜位和第二镀膜位中的工件进行镀膜；移载组件，移载组件设于相邻两个镀膜腔之间，用于承载工件在相邻两个镀膜腔之间转移，并在转移过程中对第一镀膜位和第二镀膜位中的工件进行换位。通过在镀膜源的两侧分别设置镀膜位，利用镀膜源可以同时对两个镀膜位中的工件进行镀膜，提高了镀膜源的利用率，能够减少了镀膜腔内壁上的膜层沉积，降低镀膜腔的清洗维护成本。同时，利用移载组件可以实现工件在相邻两个镀膜腔之间的转移以及换位，从而可以同时对两个工件进行双面镀膜。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于镀膜，具体涉及一种镀膜设备及镀膜系统。

技术介绍

1、磁控溅射属于物理气相沉积技术之一，是通过外加电场的作用下，将氩气分子电离成大量的氩离子和电子，氩离子在电场与磁场的双重作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在电池片上成膜。在太阳能电池制造领域，通常采用磁控溅射的方式将氧化铟锡(ito)靶材分别溅射到电池片的正、背面形成镀层。

2、相关技术中，磁控溅射设备包括上料区、进料腔、加热腔、工艺腔、传输腔、出料腔和下料区，其中工艺腔分为上镀膜腔与下镀膜腔，在上镀膜腔对电池片的正面进行镀膜，在下镀膜腔对电池片的背面进行镀膜。

3、然而，氩离子轰击靶材溅射出的靶材原子，其中一部分沉积到电池片表面，还有一部分会溅射到工艺腔的内壁上，不仅造成了靶材的浪费，也增加了工艺腔的清洗维护成本。

技术实现思路

1、本申请旨在提供一种镀膜设备及镀膜系统，能够解决相关技术中的磁控溅射设备存在靶材浪费，且工艺腔的清洗维护成本较高的问题。

2、为了解决上述技术问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述移载组件包括：第一传输机构、第二传输机构和换位机构；

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述换位机构包括：支架和载台；

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述载台包括承载架和若干第一滚轮，所述承载架滑动连接于所述支架，所述第一滚轮转动连接于所述承载架，若干所述第一滚轮间隔成排设置。

5.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，相邻两个所述镀膜腔分别为第一腔室和第二腔室，所述第二腔室位于所述第一腔室的下行工位；

6.根...

【技术特征摘要】

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述移载组件包括：第一传输机构、第二传输机构和换位机构；

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述换位机构包括：支架和载台；

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述载台包括承载架和若干第一滚轮，所述承载架滑动连接于所述支架，所述第一滚轮转动连接于所述承载架，若干所述第一滚轮间隔成排设置。

5.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，相邻两个所述镀膜腔分别为第一腔室和第二腔室，所述第二腔室位于所述第一腔室的下行工位；

6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括：第一感应件和第二感应件；

7.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一传输机构和所述第二传输机构中至少一个包括：基座、若干第二滚轮和载盘；

8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜源包括：环形靶材和磁性体；

9.根据权利要求8所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁陨来，陈哲，邱江南，王建波，徐希翔，
申请(专利权)人：隆基绿能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：