一种硅片喷砂机用输送装置制造方法及图纸

本技术涉及硅片喷砂技术领域，尤其为一种硅片喷砂机用输送装置，包括喷砂箱、喷砂头和喷砂管，所述喷砂箱的内部左侧转动连接有第一传送带，所述喷砂箱的内部右侧转动连接有第二传送带，所述喷砂箱的内侧中间位置处转动连接有挡板，所述挡板的内侧固定连接有翻面板，本技术中，通过设置的翻面板、吸气风机和排气风机，利用对翻面板的转动能够使落在盛放槽内的硅片进行翻面，以使第一传送带上端的硅片翻面落在第二传送带上，并在翻面板转动过程中使连接管在吸气框和排气框后端切换，进而能够使吸气风机和排气风机切换对连接管进行吸气排气切换，以使硅片输送过程中能够自动翻面，提升喷砂效率和喷砂加工全面性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及硅片喷砂，具体为一种硅片喷砂机用输送装置。

技术介绍

1、随着社会的发展，对硅片的应用愈加广泛，在做半导体晶体管前，硅片要经过喷砂处理，以去除表面氧化层，此类工艺是比较原始的工艺了，目前去处氧化层多用氢氟溶液，对制造工艺要求不高的低端半导体晶体管，可以用喷砂处理。

2、现有技术中，对于硅片喷砂机在使用时，对于硅片的输送仅仅能够保持硅片单面面向喷砂设备，无法对硅片的双面进行一次性加工，进而影响对硅片的喷砂加工效率；且在进行喷砂加工时，喷砂机的喷砂出口位置固定，使输送过程中的硅片在从喷砂出口移动后受到的喷砂较少，无法保证喷砂加工效果，以至于需要多次加工，影响对硅片的加工效率。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种硅片喷砂机用输送装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：

3、一种硅片喷砂机用输送装置，包括喷砂箱、喷砂头和喷砂管，所述喷砂箱的内部左侧转动连接有第一传送带，所述喷砂箱的内部右侧转动连接有第二传送带，所述喷砂箱本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片喷砂机用输送装置，包括喷砂箱(1)、喷砂头(9)和喷砂管(20)，其特征在于：所述喷砂箱(1)的内部左侧转动连接有第一传送带(2)，所述喷砂箱(1)的内部右侧转动连接有第二传送带(3)，所述喷砂箱(1)的内侧中间位置处转动连接有挡板(4)，所述挡板(4)的内侧固定连接有翻面板(5)，所述翻面板(5)的下端密封连接有连接管(6)，所述连接管(6)与挡板(4)之间密封连接，所述喷砂箱(1)的内壁上侧固定连接有限位轨框(7)，所述限位轨框(7)的内侧滑动连接有支撑滑块(8)，所述支撑滑块(8)的下端密封连接有喷砂头(9)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片喷砂机用输送装...

【技术特征摘要】

1.一种硅片喷砂机用输送装置，包括喷砂箱(1)、喷砂头(9)和喷砂管(20)，其特征在于：所述喷砂箱(1)的内部左侧转动连接有第一传送带(2)，所述喷砂箱(1)的内部右侧转动连接有第二传送带(3)，所述喷砂箱(1)的内侧中间位置处转动连接有挡板(4)，所述挡板(4)的内侧固定连接有翻面板(5)，所述翻面板(5)的下端密封连接有连接管(6)，所述连接管(6)与挡板(4)之间密封连接，所述喷砂箱(1)的内壁上侧固定连接有限位轨框(7)，所述限位轨框(7)的内侧滑动连接有支撑滑块(8)，所述支撑滑块(8)的下端密封连接有喷砂头(9)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片喷砂机用输送装置，其特征在于：所述翻面板(5)的上端面开设有盛放槽(10)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片喷砂机用输送装置，其特征在于：所述喷砂箱(1)的前端下侧密封连接有吸气框(11)，所述吸气框(11)的下端密封连接有吸气风机(12)，所述喷砂箱(1)的前端上侧密封连接有排气框(13)，所述排气框(13)的上端密封连接有排气风机(14)，所述吸气框(11)与排气框(13)的后端均呈开放设置，所述吸气框(11)和排气框(13)的后端均与挡板...

【专利技术属性】
技术研发人员：张明声，
申请(专利权)人：昆山冠昂智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：