【技术实现步骤摘要】
本申请涉及cmp终点检测,尤其涉及一种滤波参数确定方法及装置。
技术介绍
1、cmp(chemical mechanical polish,化学机械研磨)终点检测前需要先对检测曲线进行滤波处理,以便提高终点检测的准确性。
2、目前,在对检测曲线进行滤波处理时,是人工根据经验选择滤波类型和参数,然后,利用人工选择的滤波类型和参数进行滤波处理。这种方式会因人工经验不足等影响而导致滤波类型和参数选择不合理,例如可能会出现过度滤波,从而使终点检测出现较大的时间延迟、灵敏度减弱,导致cmp工艺控制能力差、晶圆良率降低。
3、综上所述,如何提高滤波参数设置的合理性,以便提高cmp终点检测的灵敏度和可靠性,是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
1、有鉴于此,本申请的目的是提供一种滤波参数确定方法及装置,用于提高滤波参数设置的合理性,以便提高cmp终点检测的灵敏度和可靠性。
2、一种滤波参数确定方法,包括:
3、获取原始信号曲线,并获取利用
...【技术保护点】
1.一种滤波参数确定方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线及所述原始信号曲线确定各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
3.根据权利要求2所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据所述第一偏差信号曲线确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
4.根据权利要求3所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据所述第一拟合信号曲线的离散程度确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
5.根据权利要求3所述
...【技术特征摘要】
1.一种滤波参数确定方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线及所述原始信号曲线确定各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
3.根据权利要求2所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据所述第一偏差信号曲线确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
4.根据权利要求3所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据所述第一拟合信号曲线的离散程度确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
5.根据权利要求3所述的滤波参数确定方法,其特征在于,计算所述第一拟合信号曲线的离散程度,根据所述第一拟合信号曲线的离散程度确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
6.根据权利要求2所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据所述第一偏差信号曲线确定当前组的所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
7.根据权利要求1所述的滤波参数确定方法,其特征在于,根据各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线及所述原始信号曲线确定各组所述滤波参数对应的滤波信号曲线的时间延迟,包括:
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【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名,
申请(专利权)人:江苏元夫半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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