显影液中胶体监控方法、化垢组合物以及监控系统技术方案

本发明专利技术提供一种显影液中胶体监控方法、化垢组合物以及监控系统，根据显影液中胶体的界达电位分布变化及粒径分布变化发出更换显影液的警示讯息，可作为判断显影程序是否需停机进行清理并更换显影液的参考指标。化垢组合物可抑制显影液中胶体的聚集与尺寸增长，藉此可延长显影液的工作时间。通过上述显影液中胶体监控方法以及化垢组成物，不仅可有效利用显影液，还可最小化停机次数、降低清洗频率、减少化学药品的使用，更重要的是节省显影程序用水及碳排放量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显影槽制程监控，具体而言，涉及显影液中胶体监控方法、化垢组合物以及监控系统。

技术介绍

1、光阻材料常用作为用于微影制程的屏蔽，并应用于印刷电路板、显示面板及集成电路基板的制造。光阻材料一般由感旋光性树脂组合物组成，并可分类为未曝光部分会被溶解去除的负型光阻，以及经曝光部分会被溶解去除的正型光阻。

2、在使用光阻材料生产产品的过程中，为了保持产品的卓越质量及高良率并同时满足持续发展，必须严谨管控显影程序单元的操作精准度，且需要降低单位产出基板片数的化学药品用量、化学废液处理量，以及更重要是降低处理用水量。理想方式之一系透过最适化或最大化回收已使用的显影液，回收利用于下一批次的显影程序，延长显影槽的工作时间。透过上述计划性节降，可望显著降低碳排放量。然而，落实此想法极具挑战性。

3、以印刷电路板的制作为例，美国专利号5,853,963提出透过额外添加氢氧化物于显影液槽控制酸碱值(ph值)来维持碳酸根显影活性以延长显影液的工作时间。然而，当线路设计愈精密，愈难以仅由在显影程序中控制ph值来维持显影活性。因此，需要藉由非离子本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显影液中胶体监控方法，其特征在于，所述显影液用以对经曝光的基板进行显影以移除部分光阻，包括：

2.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，侦测所述显影液中的胶体的粒径分布变化的步骤包括：

3.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，侦测所述显影液中的胶体的粒径分布变化的步骤包括：在第一时间点侦测所述显影液中的胶体的第一粒径分布并取得第一粒径分布讯号峰；

4.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，

6.根据权利要求1所述...

【技术特征摘要】

1.一种显影液中胶体监控方法，其特征在于，所述显影液用以对经曝光的基板进行显影以移除部分光阻，包括：

2.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，侦测所述显影液中的胶体的粒径分布变化的步骤包括：

3.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，侦测所述显影液中的胶体的粒径分布变化的步骤包括：在第一时间点侦测所述显影液中的胶体的第一粒径分布并取得第一粒径分布讯号峰；

4.根据权利要求1所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的显影液中胶体监控方法，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的显影液中胶体...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂裕康，郑圣泉，
申请(专利权)人：太仓信科电子化学制剂有限公司，
类型：发明
国别省市：