【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于亚表面纳米特征超分辨无损检测领域,具体涉及了非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法。
技术介绍
1、亚表面纳米特征通常由于其与主体材料在结构组成、机械特性、粘附特性等多方面的差异而被区分开来,而对亚表面纳米特征的有效检出与无损成像在半导体器件、超精密制造、材料科学、细胞生物学等诸多领域发挥重要作用,同时针对核心零部件失效分析、功能材料特性表征、亚细胞器结构动态监测等需求也促进了亚表面纳米特征超分辨成像技术的进一步发展。
2、现有技术体系中,以扫描探针显微镜(spm-scanning probe microscopy)为代表的技术体系对亚表面特征具备一定的检出能力,其中原子力显微镜(afm-atomic forcemicroscopy)以悬臂探针原子与样品表面原子之间的相互作用力与间距的关系,同时结合hertz接触理论可实现对浅层亚表面纳米特征的检出;扫描隧道显微镜(stm-scanningtunneling microscopy)通过严格控制针尖原子与样品表面原子之间的间距所测得的隧道电流以反演出样
...【技术保护点】
1.一种非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法,其特征在于,方法采用非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像装置,装置包括信号激励模块、限位模块、超声换能器(7)、三维纳米位移平台(8)和计算机(14);超声换能器(7)固定安装在三维纳米位移平台(8)的上表面,含有亚表面特征的待检样品(4)放置在超声换能器(7)上,三维纳米位移平台(8)受控于计算机(14),限位模块与计算机(14)连接;
2.根据权利要求1所述的一种非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的一种非尖端-样品表面
...【技术特征摘要】
1.一种非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法,其特征在于,方法采用非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像装置,装置包括信号激励模块、限位模块、超声换能器(7)、三维纳米位移平台(8)和计算机(14);超声换能器(7)固定安装在三维纳米位移平台(8)的上表面,含有亚表面特征的待检样品(4)放置在超声换能器(7)上,三维纳米位移平台(8)受控于计算机(14),限位模块与计算机(14)连接;
2.根据权利要求1所述的一种非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的一种非尖端-样品表面依赖的亚表面特征超分辨无损成像方法,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的一种非尖端-样品表面依赖...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐龙华,田野,陈剑,曾标峰,江涛,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:
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