一种超导量子芯片的制作方法及其功能线路的制作方法技术

本发明专利技术提供了一种超导量子芯片的制作方法及其功能线路的制作方法，涉及超导量子技术领域。在对功能线路的制作过程中，在对光刻胶层进行曝光显影处理之后，还将形成的实体掩膜部置于臭氧环境中进行残留光刻胶材料的去除，避免衬底基片在镂空图案部处的表面出现光刻胶材料的残留，进而避免后续在镂空图案部处形成的功能线路与衬底基片之间界面处出现光刻胶材料的残留情况，提高了功能线路的制备质量，改善了因功能线路与衬底基片之间界面处洁净程度差，而导致超导量子芯片出现的品质因子降低和退相干时间降低等问题，提高了超导量子芯片的性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及超导量子芯片，更为具体地说，涉及一种超导量子芯片的制作方法及其功能线路的制作方法。

技术介绍

1、量子计算机是一类遵循量子力学规律进行高速数学和逻辑运算、存储及处理量子信息的物理装置。量子计算机的特点主要有运行速度较快、处置信息能力较强、应用范围较广等。量子计算的物理系统主要包括离子阱、超导电路、冷原子、线性光学、金刚石色心、量子点、核磁共振等。超导量子芯片是超导量子计算机的核心部件，超导量子芯片通常包括衬底以及形成于衬底上的金属功能线路等结构。现有的超导量子芯片的金属功能线路的制备质量较差，严重影响了超导量子芯片的性能。

技术实现思路

1、有鉴于此，本专利技术提供了一种超导量子芯片的制作方法及其功能线路的制作方法，有效解决了现有技术存在的技术问题，提高了功能线路的制备质量，提高了超导量子芯片的性能。

2、为实现上述目的，本专利技术提供的技术方案如下：

3、一种超导量子芯片的功能线路的制作方法，包括：

4、提供衬底基片；

5、在所述衬底基片的线路表本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，在提供所述衬底基板之后，且在形成光刻胶层之前，还包括：

3.根据权利要求2所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，对所述衬底基片进行第一次超声清洗，包括：

4.根据权利要求1所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，对所述光刻胶层进行曝光显影形成实体掩膜部和镂空图案部，包括：

5.根据权利要求4所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，所述第一次曝光处理的曝光剂量为10-150m...

【技术特征摘要】

1.一种超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，在提供所述衬底基板之后，且在形成光刻胶层之前，还包括：

3.根据权利要求2所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，对所述衬底基片进行第一次超声清洗，包括：

4.根据权利要求1所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，对所述光刻胶层进行曝光显影形成实体掩膜部和镂空图案部，包括：

5.根据权利要求4所述的超导量子芯片的功能线路的制作方法，其特征在于，所述第一次曝光处理的曝光剂量为10-150mj/cm2；

6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡金耀，梁潇，孟铁军，项金根，
申请(专利权)人：深圳量旋科技有限公司，
类型：发明
国别省市：