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本发明提供了一种超导量子芯片的制作方法及其功能线路的制作方法，涉及超导量子技术领域。在对功能线路的制作过程中，在对光刻胶层进行曝光显影处理之后，还将形成的实体掩膜部置于臭氧环境中进行残留光刻胶材料的去除，避免衬底基片在镂空图案部处的表面出现...
该专利属于深圳量旋科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳量旋科技有限公司授权不得商用。

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