【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种等离子体源机构。
技术介绍
1、目前，在等离子体源机构的线圈系统中，线圈模块由于线圈磁场的原因，相同电流下线圈内外产生的磁感应强度不同，进而导致线圈内外的离子速率不一致，从而影响射频电源的输出精度，功放效果较差。
2、上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的在于提供一种等离子体源机构，旨在解决现有技术中等离子体源机构内线圈由于线圈磁场的原因导致线圈内外的离子速率不一致，从而影响射频电源的输出精度，功放效果较差的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提出一种等离子体源机构，应用于具有真空腔室的真空腔体设备，所述等离子体源机构包括：辅助线圈模块以及带有主线圈的主线圈模块；
3、其中，所述辅助线圈模块内设置有用于产生辅助磁场的辅助线圈，所述主线圈用于产生交流磁场，且所述交流磁场与所述辅助磁场之间存在相互作用部分；
4、所述辅助线圈模块，...
【技术保护点】
1.一种等离子体源机构，应用于具有真空腔室的真空腔体设备，其特征在于，所述等离子体源机构包括：辅助线圈模块以及带有主线圈的主线圈模块；
2.如权利要求1所述的等离子体源机构，其特征在于，所述辅助线圈模块包括：检测模块以及辅助电源模块；
3.如权利要求2所述的等离子体源机构，其特征在于，所述辅助电源模块包括：控制单元以及辅助电源；
4.如权利要求3所述的等离子体源机构，其特征在于，所述控制单元，还用于在接收到所述检测信号时，对传输至所述辅助线圈的所述供电电流进行递增，以使对所述辅助线圈产生的所述辅助磁场的磁场强度进行递增。
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。